杭州譜育科技發(fā)展有限公司
氧遷移分離干擾離子,ICP-MS/MS測(cè)定高純稀土氧化釓14種REE雜質(zhì)元素
檢測(cè)樣品:氧化釓樣品
檢測(cè)項(xiàng)目:Lu Tb
方案概述:本文通過使用ICP-MS/MS對(duì)氧化釓樣品直接測(cè)定分析,在碰撞模式實(shí)現(xiàn)干擾較少元素的測(cè)定、氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式實(shí)現(xiàn)Lu、Tb元素的測(cè)定,操作簡單,測(cè)試穩(wěn)定,效率高,為實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行高純REE中的REE雜質(zhì)元素的準(zhǔn)確測(cè)試分析提供思路和借鑒。
稀土被譽(yù)為“工業(yè)味精”、“工業(yè)維生素”和“新材料之母”,是珍貴的戰(zhàn)略金屬資源,具有無法取代的優(yōu)異磁、光、電性能。由于稀土作用大,用量少,已成為改進(jìn)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)、提高科技含量、促進(jìn)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要元素,被廣泛應(yīng)用到冶金、軍事、石油化工、玻璃陶瓷、農(nóng)業(yè)和新材料等領(lǐng)域。因此高純REE材料的要求越加嚴(yán)苛,當(dāng)其存在其它REE元素時(shí),常常會(huì)對(duì)最終產(chǎn)品的功能產(chǎn)生影響,因此高純稀土物的檢測(cè)方法十分重要。
高純REE中雜質(zhì)元素的檢測(cè)方法需要具備高的靈敏度高和低的檢出限。常用的檢測(cè)儀器X射線熒光光譜、原子吸收光譜、原子發(fā)射光譜受檢出限、分析流程和分析效率的制約,無法實(shí)現(xiàn)REE中雜質(zhì)元素的多元素同時(shí)、高效分析。電感耦合等離子體質(zhì)譜法具有操作簡單,多元素同時(shí)檢測(cè)等特性,但使用單桿ICP-MS測(cè)定痕量REE雜質(zhì)仍具有挑戰(zhàn)性:高純REE基質(zhì)中的多原子離子會(huì)對(duì)某些REE元素產(chǎn)生嚴(yán)重的質(zhì)譜干擾,如測(cè)高純稀土氧化釓樣品中158GdH+對(duì)159Tb的干擾,159GdOH+對(duì)175Lu的干擾。而串聯(lián)四極桿質(zhì)譜(ICP-MS/MS)配有的雙四極桿(能夠進(jìn)行雙重質(zhì)量選擇)、碰撞反應(yīng)池技術(shù)(既能通過碰撞模式成功消除常見的來自基質(zhì)的多原子干擾,又能通過質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式將待測(cè)離子與干擾離子分開),可以實(shí)現(xiàn)高純稀土中REE雜質(zhì)元素的檢測(cè)。
本文通過使用ICP-MS/MS對(duì)氧化釓樣品直接測(cè)定分析,在碰撞模式實(shí)現(xiàn)干擾較少元素的測(cè)定、氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式實(shí)現(xiàn)Lu、Tb元素的測(cè)定,操作簡單,測(cè)試穩(wěn)定,效率高,為實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行高純REE中的REE雜質(zhì)元素的準(zhǔn)確測(cè)試分析提供思路和借鑒。
關(guān)鍵詞:ICP-MS/MS、冶金、材料、氧化釓、碰撞反應(yīng)池、高基體高鹽配置、氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式
實(shí)驗(yàn)部分
儀器
表1 電感耦合等離子質(zhì)譜儀及超級(jí)微波消解儀

表2 電感耦合等離子質(zhì)譜儀檢測(cè)參數(shù)
 
 
樣品處理
稱取氧化釓粉末樣品,緩慢加入硝酸,輕輕搖動(dòng)使其混勻,電熱板上蓋160℃加熱1 h左右,待其消解全,冷卻后,使用超純水轉(zhuǎn)移至PP瓶中稀釋定容,待上機(jī)測(cè)試。
標(biāo)準(zhǔn)曲線與檢出限
全程序樣品空白連續(xù)分析11次,所得結(jié)果以3倍標(biāo)準(zhǔn)偏差稀釋倍數(shù)計(jì)算各元素檢出限,如表3所示。各種元素測(cè)定質(zhì)量數(shù)、分析模式、校準(zhǔn)曲線線性(以相關(guān)系數(shù)r來衡量)也列于表3。
表3 測(cè)定元素質(zhì)量數(shù)、相關(guān)系數(shù)及檢出限
 
 
方法精密度
向制備的7份平行樣中進(jìn)行1μg/L加標(biāo),進(jìn)行方法精密度測(cè)試,各元素精密度測(cè)試結(jié)果見表4,各元素的測(cè)定值的RSD值均優(yōu)于5.05%,表明該方法精密度良好。
表4 方法精密度
 
實(shí)際樣品測(cè)試
表5 氧化釓樣品中稀土元素含量結(jié)果(mg/kg)
 
結(jié)語
本文使用ICP-MS/MS成功測(cè)定了氧化釓樣品溶液中的14種REE雜質(zhì)元素。對(duì)于樣品基質(zhì)干擾較小的元素,可以運(yùn)用碰撞池消除干擾,對(duì)于樣品基質(zhì)干擾較大的元素,如Tb、Lu采用氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式用氧氣質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式,實(shí)現(xiàn)該元素的穩(wěn)定測(cè)試分析。利用ICP-MS/MS額外的四極桿,能選擇目標(biāo)質(zhì)量數(shù)進(jìn)入反應(yīng)池,精準(zhǔn)控制和監(jiān)測(cè)復(fù)雜基質(zhì)中的反應(yīng)過程,有效的消除氧化釓基質(zhì)中的多原子干擾,從而實(shí)現(xiàn)氧化釓樣品的良好測(cè)試分析。
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-     附錄 
設(shè)備與耗材方案
一、EXPEC 7350 標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)樣系統(tǒng)配置詳情

二、試劑及標(biāo)準(zhǔn)品

相關(guān)產(chǎn)品清單
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