 | 天津中環(huán)電爐股份有限公司 |
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[供應(yīng)]PECVD系統(tǒng)
PECVD系統(tǒng)
PECVD系統(tǒng)產(chǎn)品應(yīng)用：
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
PECVD系統(tǒng)產(chǎn)品組成：
此款PECVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開(kāi)啟式雙溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
PECVD系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：
生長(zhǎng)溫度低；沉積速率快；成膜質(zhì)量好，適用范圍廣，設(shè)備簡(jiǎn)單。
系統(tǒng)名稱(chēng) | 1200℃雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng) | |
系統(tǒng)型號(hào) | PECVD-12II-3Z/G | PECVD-12II6-3Z/G |
zui高溫度 | 1200℃ | |
加熱區(qū)長(zhǎng)度 | 420mm | 610mm |
恒溫區(qū)長(zhǎng)度 | 280mm | 400mm |
溫區(qū) | 雙溫區(qū) | 雙溫區(qū) |
石英管管徑 | Φ50/Φ60/Φ80 | Φ80/Φ100 |
額定功率 | 3.2Kw | 4.8Kw |
額定電壓 | 220V | 220V |
溫度控制 | 國(guó)產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫； | |
控制精度 | ±1℃ | |
爐管zui高工作溫度 | ＜1200℃ | |
氣路法蘭 | 本實(shí)用新型在密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術(shù)，在密封法蘭與管外壁間形成了密封，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效，該密封法蘭的安裝只需在*次使用設(shè)備的時(shí)候安裝 | |
氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計(jì) | |
氣路數(shù)量 | 3路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量） | |
流量范圍 | 0-500sccm(標(biāo)準(zhǔn)毫升/分，可選配）氮?dú)鈽?biāo)定 | |
精度 | ±1%F.S | |
響應(yīng)時(shí)間 | ≤4sec | |
工作溫度 | 5-45℃ | |
工作壓力 | 進(jìn)氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） | |
系統(tǒng)連接方式 | 采用KF快速連接波紋管、高真空手動(dòng)擋板閥及數(shù)顯真空測(cè)量?jī)x | |
規(guī)格 | 中真空 | 高真空 |
系統(tǒng)真空范圍 | 10Pa-100Pa | 1x10-3Pa-1x10-1Pa |
真空泵 | 雙極機(jī)械泵理論極限真空度1x10-1Pa，抽氣速率4L/S,出氣口配有油污過(guò)濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw | 真空分子泵理論極限真空度 |
信號(hào)頻率 | 13.56MHz±005% | |
功率輸出范圍 | 5W-500W | |
zui大反射功率 | 200W | |
射頻輸出接口 | 50Ω，N-type,temale | |
功率穩(wěn)定度 | ±0.1% | |
諧波分量 | ≤-50dbc | |
供電電壓 | 單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ | |
整機(jī)功率 | ≥70% | |
屏幕顯示 | 正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值 | |
爐體外形尺寸 | 340×580×555mm | 480×770×605mm |
系統(tǒng)外形尺寸 | 530*2310*750mm | 530*2310*750mm(不含高真空） |
系統(tǒng)總重量 | 270kg | 350kg |
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