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金屬總量控制的新一代OES分析方法
為符合材料規(guī)范,必須測試所有事項?,F(xiàn)行規(guī)范已超過許多中端OES光譜儀所能處理的范圍。OES光譜儀對許多企業(yè)而言遙不可及,可能不適合高產量生產環(huán)境。日立分析儀器的新型OE750便為解決此問題而應運而生。
介紹OE750:專為全新級OES分析而設計
這款OES光譜儀具有較高的性能,但其購買*,運行成本合理。目前,是能夠實現(xiàn)全新級OES分析的光譜儀,例如:
- 分析鋼鐵中所有合金、處理、痕量元素、殘余元素和夾雜元素的能力。OE750能提供極低的檢出限,可檢測含量低于10ppm的銻、硼、鉛、氮、鋅、鉍、硒和碲。
- 符合經(jīng)修訂的ASTM E415中有關碳鋼和低合金鋼測試方法和ASTM E1086中有關不銹鋼分析標準測試方法的要求。此款分析儀可輕松檢測含量為10ppm的氮元素。
- 允許鋁壓鑄機將近共晶和過共晶鋁-硅合金中的磷、銻和鉍的含量控制在極低限值內??刂拼祟愒丶捌渌麏A雜元素和痕量元素可確保鋁加工廠對優(yōu)化熔體結構具備更強的控制能力。
- 輕松檢測含量為1ppm的廢金屬中的痕量元素,包括鋅。這對回收汽車部件或分揀來料廢品至關重要。
- 通過分析氮、氧和氫等氣體元素,控制鈦的生產。
- 分析精煉廠中銅陽極以及鑄造廠中黃銅、青銅、錫青銅和其他銅合金的潛力。
- 全面的痕量元素分析,用于支持金屬加工和成型廠所用進料的材料可靠性鑒定測試。
此款光譜儀的這些能力可確保鑄造廠和金屬加工廠*無需出于成本考量而降低性能標準。對于鑄造廠、煉鋼廠、金屬制造商和廢金屬廠而言,OE750以具有成本效益的價格,提供全新級OES分析。
高效質量控制,符合標準
OE750在同類產品中具有較佳光學分辨率,并涵蓋金屬中元素的整個光譜,能提供某些低檢出限。此性能通過構思新光學概念和發(fā)展其他技術創(chuàng)新而實現(xiàn),例如新型密封火花臺和火花放光源。
額外優(yōu)點(例如:啟動速度加快,維護間隔縮短)確保光譜儀支持高產量生產和100% 的PMI質量保證計劃。