日立分析儀器(上海)有限公司

日立分析儀器:微型封裝用X射線熒光(XRF)分析

時間:2020-10-22 閱讀:536
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  日立分析儀器:微型封裝用X射線熒光(XRF)分析
 
  從一開始,電子部件的小型化就一直處于半導(dǎo)體器件和微電子學(xué)發(fā)展的前沿。然而,我們今天看到的設(shè)備的微小規(guī)模使得生產(chǎn)可靠的電子鍍層成為一個巨大的挑戰(zhàn)。
 
  XRF是驗(yàn)證電子設(shè)備上鍍層的成分和厚度的既定方法,但是隨著設(shè)備尺寸的減小,XRF必須適應(yīng)這些新挑戰(zhàn)。如何確定亞微米級的精度和精密度?
 
  為了幫助回答這個問題,制作了詳細(xì)的指南,內(nèi)容涉及使用XRF來測量非常小的功能。用于微型封裝的XRF分析基本指南可幫助您在測量微型鍍層時充分利用XRF設(shè)備。
 
  微型封裝XRF分析的基本指南
 
  該指南主要針對那些在PCB、半導(dǎo)體晶圓和微型連接器上產(chǎn)生微型鍍層的人而編寫,該指南涵蓋:
 
  XRF技術(shù),特征分辨率和分析元素范圍。
 
  設(shè)備中的組件如何確定必要的分辨率以及哪種技術(shù)適合微型電子設(shè)備。
 
  針對不同鍍層技術(shù)(例如Au,Ti,Al鍍層,化學(xué)鍍鎳和RF濾波器應(yīng)用)的實(shí)際分析公差。
 
  應(yīng)該采取什么措施來提高XRF分析的效率,以實(shí)現(xiàn)更高的通量。
 
  日立XRF分析儀系列簡介,這些分析儀專為微型封裝質(zhì)量控制而設(shè)計。
 
  毫無疑問,當(dāng)使用XRF來測量電子鍍層時,超越了傳統(tǒng)的限制,進(jìn)行正確、準(zhǔn)確的測量至關(guān)重要。

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