岱美儀器技術服務(上海)有限公司

  • 2023

    04-13

    晶圓鍵合技術在LED應用中的研究進展(一)

    0引言發(fā)光二極管(light-emittingdiode,LED)照明是利用半導體的電致發(fā)光發(fā)展而來的固態(tài)照明技術。自1907年第一只發(fā)光二極管問世,到20世紀90年代,人們對LED的研究進展緩慢,期...
  • 2023

    04-13

    用于創(chuàng)新PIC封裝的晶圓級納米壓印技術

    01引言數據中心、電信網絡、傳感器和用于人工智能高級計算中的新興應用,對于低功耗和低延遲的高速數據傳輸的需求呈現出指數級增長。我們比以往任何時候都更加依賴這些應用來確保這個世界更安全、更高效。在所有這...
  • 2023

    04-12

    EVG推出全新突破速度和精度極限的掩模對準光刻機

    相較上一代平臺,全新自動掩模對準系統(tǒng)(IQAlignerNT)產出率和對準精度提升兩倍,為EVG光刻解決方案帶來了全新應用微機電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術以及半導體市場晶圓鍵合和光刻設備LINGXIA...
  • 2023

    04-12

    光刻創(chuàng)新技術:EVG推出MLE無掩模曝光光刻技術

    1.介紹對電子設備性能和靈活性的新要求正在使制造基礎架構從傳統(tǒng)的基于掩模的光刻技術轉變?yōu)橛糜诟呒壏庋b和異構集成的數字光刻技術。片上系統(tǒng)正在從單片解決方案轉向封裝,小芯片和功能塊中的模塊化系統(tǒng)。因此,對...
  • 2023

    04-12

    MicroSense位移傳感器簡介

    一、優(yōu)勢簡介:MicroSense的高精度電容式位移傳在感器,除具有一般非接觸式儀器的共性外,還具有信噪比高、靈敏度高、零漂小、頻響寬、非線性小、精度穩(wěn)定性好、抗電磁干擾能力強、使用方便等優(yōu)點,在國內...
  • 2023

    04-12

    基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(結果與討論)

    3結果與討論3.1顯影時間影響經過無掩模光刻機曝光后,目標圖案已轉移至ITO玻璃上。將ITO玻璃放置于加熱板上進行加熱,烘除光刻膠中的殘留溶劑、水分,使光刻膠與ITO玻璃結合更加緊密,此時,經過曝光的...
  • 2023

    04-12

    基于無掩模光刻的高精度ITO電極濕法刻蝕工藝研究(引言+實驗)

    1引言ITO(indiumtinoxide)又稱氧化銦錫,是一種銦錫金屬氧化物,因其具有光學透明性[1]、高導電性[2]、易加工性[3]及柔性潛力[4]等優(yōu)點,目前在光電檢測、生物芯片及微納器件等領域...
  • 2023

    04-10

    超聲波清洗機能清洗硅片嗎?

    可以的。隨著半導體材料技術的發(fā)展,對硅片的規(guī)格和質量也提出更高的要求,適合微細加工的大直徑硅片在市場的需求比例將日益加大。半導體,芯片,集成電路,設計,版圖,芯片,制造,工藝目前世界普遍采用先進的切、...
  • 2023

    03-14

    ThetaMetrisis膜厚儀用于電池隔膜厚度測量

    介紹:鋰電池由正極、負極和電解液組成。隔膜是形成微孔層的高分子膜,放置在電池的正負極之間,使正負極保持分開以防短路,同時確保離子電荷載體的傳輸。隔膜的結構和特性會顯著影響電池的性能,例如能量、功率密度...
  • 2023

    03-08

    可以讓產品變性的機器,等離子清洗機?

    等離子清洗是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗的作用主要是:(1)對材料表面的刻蝕作用--物理作用等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清除了...
  • 2023

    02-20

    EVG突破用于半導體高/級封裝的掩模對準光刻技術中的速度和精度障礙

    面向MEMS,納米技術和半導體市場的晶圓鍵合和光刻設備的LINGXIAN供應商EVGroup(EVG)近日推出了IQAlignerNT,它是針對大批量先進封裝應用的新的,先進的自動掩模對準系統(tǒng)。新型I...
  • 2023

    02-20

    EVG使用300mm晶圓光刻機制造MEMS透鏡

    奧地利EVGroup(EVG)宣布,為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭,芬蘭HeptagonOy采用了EVG的光刻機(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高級副總裁HermannWalt...
  • 2023

    02-20

    【EVG新品發(fā)布】NT系列大幅度提高光刻對準和測試精度

    在微電子、納米、半導體領域為晶片接合和光刻技術提供設備技術方案的供應商EVG近期推出了NT系列光刻機和對準測試機,這是一個全新的、已經被生產廠家驗證過的新型光刻曝光機以及晶圓對晶圓(W2W)接合曝光和...
  • 2023

    02-20

    制造芯片的難題之光刻技術和掩模版制作

    一、簡介第四次工業(yè)革命以數年前尚不存在的技術席卷了我們的生活,其中一些在幾十年前甚至無法想象。自動駕駛汽車已經在公共街道上進行測試;無人機正在調查地形,拍攝視頻,派發(fā)包裹;由專業(yè)人士和業(yè)余愛好者創(chuàng)建的...
  • 2023

    06-08

    光學光刻技術(Optical lithography)

    1.簡介光學光刻(Opticallithography),也稱為光學平版印刷術或紫外光刻,是在其他處理步驟(例如沉積,蝕刻,摻雜)之前用光刻膠對掩模和樣品進行構圖的方法。2.設備(接近式光刻機)2.1...
  • 2023

    02-16

    光刻技術有哪些分類

    光刻技術是將二維圖案轉印到平坦基板上的方法??梢酝ㄟ^以下兩種基本方法來實現圖案化:直接寫入圖案,或通過掩模版/印章轉移圖案。設定的圖案可以幫助生成襯底上的特征,或者可以由沉積的圖案形成特征。通過計算機...
  • 2023

    02-14

    光學膜厚儀廣泛應用于各種薄膜產品的測量

    光學膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk,采用r-θ極坐標移動平臺,可以在幾秒鐘的時間內快速的定位所需測試的點并測試厚度,可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線性的圖形模式,...
  • 2023

    01-11

    光刻機是干什么用的,工作原理是什么?

    一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一,按照用途可以分為好幾種:有用于生產芯片的光刻機;有用于封裝的光刻機;還有用于LED制造領域的投影光刻機。二、工作原理在加工芯片的過程中,光刻機通過一系列的光源能...
  • 2023

    01-10

    光刻機的制造為什么這么難?

    近半個世紀以來,硅一直是世界科技繁榮的焦點,芯片制造商幾乎都在壓榨它的性能。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術在2005年左右達到極限,芯片制造商不得不尋求其他技術,將更多的晶體管塞到硅上,從而制造出更強大的芯...
  • 2023

    01-10

    帶你了解光刻機

    光刻技術與我們的生活息息相關,我們用的手機、電腦等各種各樣的電子產品,里面的芯片制作離不開光刻技術。如今的世界是一個信息社會,而光刻技術是制造承載信息的載體的關鍵技術,具有不可替代的作用。一、光刻技術...

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