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[供應(yīng)]EVG610 BA-EVG610 BA 鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 微流控加工

貨物所在地:上海上海市

產(chǎn)地:奧地利

更新時(shí)間:2025-02-07 21:00:07

有效期:2025年2月7日 -- 2025年8月7日

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EVG610 BA 鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 微流控加工專為晶圓與晶圓對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì),晶圓尺寸大可達(dá)150 mm。EV Group鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供手動(dòng)高精度帶有底部顯微鏡的校準(zhǔn)臺(tái)。EVG的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度能滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中苛刻的對(duì)準(zhǔn)要求。

EVG610 BA 鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)

用于晶圓到晶圓對(duì)準(zhǔn)的手動(dòng)鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),適用于學(xué)校和工業(yè)研究。


一、簡(jiǎn)介

EVG610鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)專為晶圓與晶圓對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì),晶圓尺寸zui大可達(dá)150 mm。EV Group鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)提供手動(dòng)高精度帶有底部顯微鏡的校準(zhǔn)臺(tái)。EVG的鍵合對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的精度能滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中苛刻的對(duì)準(zhǔn)要求。


二、特征

zui適用于EVG501和EVG510鍵合系統(tǒng)

晶圓和基板尺寸可達(dá)150/200 mm

手動(dòng)高精度對(duì)準(zhǔn)

手動(dòng)底側(cè)顯微鏡

基于Windows系統(tǒng)的用戶界面

*的多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶,各種訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)

桌面系統(tǒng)設(shè)計(jì),占地面積zui小

支持IR對(duì)準(zhǔn)過(guò)程

研發(fā)和試生產(chǎn)線的zui低的擁有成本(TCO)

三、技術(shù)參數(shù)

1.基本配置:

臺(tái)式

機(jī)架:可選

隔振模式:被動(dòng)


2.對(duì)準(zhǔn)方式:

背部對(duì)住精度:±2μm 3 σ

透射對(duì)準(zhǔn)精度:±1μm 3 σ

紅外對(duì)準(zhǔn):可選


3.對(duì)準(zhǔn)臺(tái):

高精度測(cè)微計(jì):手動(dòng)

可選:機(jī)械測(cè)微計(jì)

楔形補(bǔ)償:自動(dòng)


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