MAIA3是新開發(fā)的分析用掃描電子顯微鏡，它可以得到在15kV下1nm的超高分辨率。采用二次電子信號，在1kV下分辨率為1.4nm。此型號電鏡配備肖特基場發(fā)射電子槍，以及TESCAN良好的三透鏡電子光學(xué)系統(tǒng)。相比于常規(guī)物鏡，它采用了TESCAN*構(gòu)造的60度磁浸沒物鏡，它能顯著地減小光學(xué)像差，在低電壓下依然有著超高的分辨率。

TESCAN MAIA3分析用掃描電子顯微鏡

MAIA3是新開發(fā)的分析用掃描電子顯微鏡，它可以得到在15kV下1nm的超高分辨率。采用二次電子信號，在1kV下分辨率為1.4nm。此型號電鏡配備肖特基場發(fā)射電子槍，以及TESCAN良好的三透鏡電子光學(xué)系統(tǒng)。

相比于常規(guī)物鏡，它采用了TESCAN*構(gòu)造的60度磁浸沒物鏡，它能顯著地減小光學(xué)像差，在低電壓下依然有著超高的分辨率。另外，添加的中磁透鏡可以和物鏡同時使用或者代替物鏡觀察，以提供多種顯示模式。

zui重要的特性：

u  具有非凡分辨率的單極60度角物鏡；

u  無場模式用于磁性樣品的觀察；

u  高亮度肖特基電子槍可得到高分辨率/高束流/低噪聲的圖像；

u  鏡筒中的In-Beam二次電子探測器用于小工作距離條件下二次電子的檢測；

u  *的三透鏡大視野觀察設(shè)計，提供了多種工作模式和顯示模式，體現(xiàn)了TESCAN專有中間透鏡（IML）的功能；

u  實時電子束追蹤技術(shù)，可模擬和進行束斑優(yōu)化，包括直接和連續(xù)控制電子束束斑和束流大??；

u  電子束減速模式在低電壓下獲取優(yōu)秀的分辨率(選配)；

u  In-Beam背散射電子探測器用于小工作距離的背散射電子成像；

u  成像速度快；

u  高通量大面積自動化，例如自動顆粒分布和分析；

u  計算機優(yōu)化、馬達驅(qū)動的樣品臺；

u  利于EDX、EBSD分析的理想幾何設(shè)計；

u  由于使用了強力的渦淪分子泵和機械泵，因而可以快速簡單得到干凈的真空樣品室；電子槍的真空度由離子泵來維持；

u  包括電子光學(xué)設(shè)置和校準(zhǔn)的全自動顯微鏡設(shè)置；

u  完善的軟件用于SEM控制，圖像采集、存檔、處理和分析；多用戶多語言操作界面；

u  網(wǎng)絡(luò)操作和內(nèi)置的遠(yuǎn)程控制/診斷是TESCAN的標(biāo)準(zhǔn)配置；

u  *的3維電子束技術(shù)用于獲得實時立體圖像。

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