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原來這才是真空鍍碳儀的正確操作規(guī)程

閱讀:1772      發(fā)布時間:2019-12-26
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   真空鍍碳儀為SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和微探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜技術(shù)。系統(tǒng)結(jié)構(gòu)緊湊,所占空間小。樣品室直徑150mm,可快速抽真空進行鍍膜處理,處理周期約10分鐘。高真空條件下使用超純的碳棒為嚴格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜處理。.組件設(shè)計方式可方便地對不同優(yōu)化條件下的各種應(yīng)用進行切換
 
  碳蒸發(fā)控制:
  1、208C對碳棒-Bradley型碳蒸發(fā)源使用*的*集成的反饋控制設(shè)計。
  2、電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控,蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制。該蒸發(fā)裝置使常規(guī)的碳棒具有優(yōu)良的穩(wěn)定性和重現(xiàn)性。功率消耗低,碳棒具有異常的重新蒸鍍特性。
  3、蒸發(fā)源使用兩步超純碳棒。
  4、蒸發(fā)源可以手動“脈沖”或“連續(xù)”的方式進行鍍膜。“脈沖”方式如果和MTM-10高分辨膜厚監(jiān)測儀一起使用,可以準確得到所需要的膜厚。自動方式下的操作非常方便,操作者只要設(shè)定電壓和時間,可以得到一致的鍍膜效果。
 
  真空鍍碳儀的操作規(guī)程:
  1、連接電源并打開主機(POWER)。
  2、等綠燈亮后,再等3~5分鐘再調(diào)節(jié)電壓(4V)和時間(6s)。
  3、打開主機背面的小開關(guān),調(diào)整轉(zhuǎn)速在3~4檔,并設(shè)定電壓和時間。
  4、打開測厚儀并使其歸零。
  5、按START鍵開始噴碳。
  6、實驗結(jié)束先停止設(shè)備轉(zhuǎn)動,并先關(guān)掉設(shè)備背面小開關(guān)。
  7、再關(guān)POWER。
  8、關(guān)機后打開玻璃罩上蓋,等其降到實溫之后再將其蓋好。

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