這款紫外曝光機非常適合對紫外光敏感層曝光處理，是理想的紫外掩膜曝光機系統(tǒng)和掩膜對準(zhǔn)機,mask aligner.紫外曝光機廣泛用于光學(xué)，生物，微納科技，光刻等領(lǐng)域需要1-2掩膜的應(yīng)用。

紫外掩曝光機特點

1)*的單色曝光，曝光帶寬小于10nm;

2)冷紫外曝光，襯底環(huán)境溫度實時控制，從而實現(xiàn)均勻曝光，消除熱效應(yīng)；

3）*的功率密度

4） 紫外LED壽命更長，高達(dá)10000小時；

5）方便用戶使用的觸摸屏配置；

6） 不需要預(yù)熱；

7）計算機控制紫外光源強度調(diào)節(jié)；

8）自動晶圓裝載和卸載功能；

9）超低能耗；

紫外掩曝光機參數(shù)

分辨率：2微米

發(fā)射光譜：365+/-5nm,  385+/-5nm
4英寸晶圓照明： 25mW/cm^2 +/-10%

暴曬時晶圓溫度加熱:<1攝氏度
暴曬循環(huán)：1秒~18小時
記憶的曝光循環(huán)數(shù)： 10個

功率：180W

重量：8.2kg

尺寸: 260x260x260mm^2
電源： 110V/230v50Hz