對流輻射溫控系統(tǒng)

有多種對流輻射溫控系統(tǒng)可供選擇，能滿足您對溫度范圍的要求。雖然通常使用CTD 600 TDR和CTD 450 TDR基本可以滿足所有應(yīng)用需求，但是CTD 180 是wei一一個基于 Peltier 技術(shù)的對流控溫系統(tǒng)，無需使用液氮即可進(jìn)行低溫測量。 CTD 1000 溫控設(shè)備主要用于玻璃或鋁熔體等非聚合物樣品。

CCD 數(shù)字眼攝像頭

使用數(shù)字眼記錄并顯示圖像或視頻數(shù)據(jù)組，之后選擇直接顯示在圖表中，并分配到其對應(yīng)時間的測量點(diǎn)。

其他特性的測量

憑借 MCR 流變儀的 Toolmaster™ 功能（自動識別和配置所連接的設(shè)備）以及高精度法蘭，該儀器可輕松快速地裝配設(shè)備，例如用于對高性能塑料和潤滑油進(jìn)行摩擦分析的摩擦學(xué)系統(tǒng)，或者用于 SAXS 或 SALS 系統(tǒng)或介電譜-流變學(xué)設(shè)備等結(jié)構(gòu)分析的光學(xué)測量系統(tǒng)或介電測量系統(tǒng)。

CTD 180 濕度附件

相對濕度影響樣品的流變學(xué)和力學(xué)特性。CTD 180 對流控溫設(shè)備的濕度選項(xiàng)，能夠在控制溫度和濕度的條件下進(jìn)行流變測量和動態(tài)力學(xué)分析，可以用于防止樣品干燥。該選項(xiàng)允許在受控濕度下研究材料的特性。

液氮蒸發(fā)控制單元

液氮蒸發(fā)控制單元 (EVU) 可準(zhǔn)確控制溫度（從 -160 °C 起），而無溫度梯度。液氮在單獨(dú)的儲罐中被持續(xù)蒸發(fā)，并被傳輸至測量池中。這種持續(xù)蒸發(fā)無脈沖式控制，有利于的溫度控制，這是電磁閥脈沖式控制無法達(dá)到的。

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