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更新時(shí)間:2025-03-19 07:37:15瀏覽次數(shù):639次
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牛津儀器測(cè)厚儀器CMI760專為滿足印刷電路板行業(yè)銅厚測(cè)量和質(zhì)量控制的需求而設(shè)計(jì)。
CMI760可用于測(cè)量表面銅和穿孔內(nèi)銅厚度。這款高擴(kuò)展性的臺(tái)式測(cè)厚儀系統(tǒng)能采用微電阻和電渦流兩種方法來(lái)達(dá)到對(duì)表面銅和穿孔內(nèi)銅厚度準(zhǔn)確和精確的測(cè)量。CMI 760臺(tái)式測(cè)量系統(tǒng)具有非常高的多功能性和可擴(kuò)展性,對(duì)多種探頭的兼容使其滿足了包括表面銅、穿孔內(nèi)銅和微孔內(nèi)銅厚度的測(cè)量、以及孔內(nèi)銅質(zhì)量測(cè)試的多種應(yīng)用需求。
同時(shí)CMI760具有*的統(tǒng)計(jì)功能用于測(cè)試數(shù)據(jù)的整理分析。
CMI760 PCB專用銅厚測(cè)試儀技術(shù)參數(shù):
SRP-4面銅探頭測(cè)試技術(shù)參數(shù):
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銅厚測(cè)量范圍:
化學(xué)銅:10 μin – 500 μin (0.25 μm – 12.7 μm)
電鍍銅:0.1 mil – 6 mil (2.5 μm – 152 μm)
線形銅可測(cè)試線寬范圍:8 mil – 250 mil (203 μm – 6350 μm)
準(zhǔn)確度:±1% (±0.1 μm)參考標(biāo)準(zhǔn)片
精確度:化學(xué)銅:標(biāo)準(zhǔn)差0.2 %;電鍍銅:標(biāo)準(zhǔn)差0.5 %
分辨率:0.01 mils ≥ 1 mil, 0.001 mils <1 mil,="">1>
0.1 μm ≥ 10 μm, 0.01 μm < 10="" μm,="" 0.001="" μm="">< 1="" μm="">
ETP孔銅探頭測(cè)試技術(shù)參數(shù):
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可測(cè)試*小孔直徑:35 mils (899 μm)
測(cè)量厚度范圍:0.08 – 4.0 mils (2 – 102 μm)
電渦流原理:遵守ASTM-E376-96標(biāo)準(zhǔn)的相關(guān)規(guī)定
準(zhǔn)確度:±0.01 mil (0.25 μm) < 1="" mil="" (25="" μm)="">
精確度:1.2 mil(30μm)時(shí),達(dá)到1.0% (實(shí)驗(yàn)室情況下)
分辨率:0.01 mils (0.1μm)
TRP-M(微孔)探頭測(cè)試技術(shù)參數(shù):
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*小可測(cè)試孔直徑范圍:10 – 40 mils (254 – 1016 μm)
孔內(nèi)銅厚測(cè)試范圍:0.5-2.5mils(12.7-63.5μm)
*大可測(cè)試板厚:175mil (4445 μm)
*小可測(cè)試板厚:板厚的*小值必須比所對(duì)應(yīng)測(cè)試線路板的*小孔孔徑值高3mils(76.2μm)
準(zhǔn)確度(對(duì)比金相檢測(cè)法):±0.01 mil (0.25 μm) < 1="" mil="" (25="" μm)="">
±10%≥1mil(25 μm)
精確度:不建議對(duì)同一孔進(jìn)行多次測(cè)試
分辨率:0.01 mil(0.1 μm)
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