磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

 磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，zui簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

主要特點(diǎn)：

 主要特點(diǎn)如下：

1、    配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表，用以指示、監(jiān)    控儀器狀態(tài)；

2、    濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥。在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體，獲得*鍍膜效果；

3、    特殊設(shè)計(jì)的鐘罩邊緣橡膠密封圈，可保證*使用不會(huì)出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊"現(xiàn)象；

4、    陶瓷密封高壓頭比通常采用橡膠密封的更經(jīng)久耐用；

根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。

技術(shù)參數(shù)：

 主要技術(shù)參數(shù)：

1、      本系統(tǒng)裝配了磁控靶，靶面直徑為50 mm，可快速更換靶材。濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層（無(wú)需水冷卻）。

2、      可選用水冷濺射頭和水冷載物臺(tái)。

3、主機(jī)規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm

4、靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm

5、真空樣品室：   直徑：160mm，高：120mm

6、濺射面積：     Ф50mm   

7、指示表：   zui高真空度：≤4X10^-2   mbar

8、子電流表：   zui大電流：50mA(100mA)

9、定時(shí)器：       zui長(zhǎng)時(shí)間：9999S

10、微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

11、可通入氣體：   多種

12、zui高電壓：     -1600 DCV

13、機(jī)械泵：       2L/S