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4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)-OTF-1200X-50-4CLV-PE
  • 4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)-OTF-1200X-50-4CLV-PE
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貨物所在地:安徽合肥市

更新時(shí)間:2025-01-22 21:00:06

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為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD), 內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率,同時(shí)也可以延長(zhǎng)儀器的使用壽命。

為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD), 內(nèi)爐膛表面涂有美國(guó)進(jìn)口的高溫氧化鋁涂層可以提高設(shè)備的加熱效率,同時(shí)也可以延長(zhǎng)儀器的使用壽命。

  技術(shù)參數(shù)

實(shí)驗(yàn)機(jī)理                             

  • 輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3
  • 電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 雖環(huán)境溫度在100-300℃,但反應(yīng)氣體在輝光放電等離子體中能受激分解,離解和離化,從而大大提高了反應(yīng)物的活性。因此,這些具有反應(yīng)活性的中性物質(zhì)很容易被吸附到較次溫度的基本表面上,發(fā)生非平衡的化學(xué)反應(yīng)沉積生成薄膜。
  • 科晶公司提供定制的薄膜材料的實(shí)驗(yàn)室質(zhì)量可靠、價(jià)格合理的緊湊型PECVD系統(tǒng)。
  • 下圖顯示的是PECVD法用500W交流等離子體與OTF1200X50、7通道精密質(zhì)量流量計(jì)和高真空系統(tǒng)氣體組成

 

 OTF-1200X開(kāi)啟式管式爐,工作溫度高達(dá)1200℃

      化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)的組成圖

 

開(kāi)啟式管式爐

  • 工作溫度:1200℃
  • 爐管尺寸:Φ50,Φ60,Φ80都可用
  • 溫度控制器:30段高精度數(shù)字可編程溫度控制器
  • 加熱區(qū)長(zhǎng)度:440mm
  • 恒溫區(qū)長(zhǎng)度:150mm
  • 功率:AC 220V 4KW

等離子射頻電源                       

  • 輸出功率:50-500Wzui大可調(diào)±1%
  • RF頻率: 13.56MHz的±0.005%穩(wěn)定可調(diào)
  • 噪聲:≤55DB
  • 冷卻:風(fēng)冷
  • 輸入功率:1KW  AC 220V

真空泵和閥門(mén)                          

  • 采用KF25系列波紋管和精密針閥連接
  • 真空度可達(dá)10-3torr
  • 數(shù)字真空壓力表可直觀的顯示數(shù)值
  • 可選:本公司進(jìn)口的防腐型數(shù)字式真空顯示計(jì),其測(cè)量范圍為3.8x10-5 至 1125 Torr. 不需因測(cè)量氣體種類不同而需要系數(shù)轉(zhuǎn)換。(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)介紹)

質(zhì)量流量計(jì)

  • 內(nèi)部裝有高精度數(shù)字顯示質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量
  • 氣體流量范圍為0-200 誤差為0.02%
  • 一個(gè)氣體混氣罐的底部安裝了液體釋放閥
  • 不銹鋼針閥安裝在左側(cè)可手動(dòng)控制混合氣體輸入
  • 進(jìn)氣口:采用標(biāo)準(zhǔn)雙卡套接頭

細(xì)節(jié)圖展示

 

外形尺寸

  • 爐體:550*380*520mm
  • 供氣及真空系統(tǒng):600*600*597mm
  • 凈重:120KG
操作視頻多通道質(zhì)量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)

質(zhì)保期

一年質(zhì)保期相關(guān)耗材除外,如加熱元件,密封圈等易耗件

質(zhì)量認(rèn)證

   CE認(rèn)證

國(guó)家

名稱:可組合式等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積裝置

編號(hào):ZL-2011-2-0355777.1

尊重創(chuàng)新、鄙視抄襲、侵權(quán)必究

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