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本儀器廣泛的應(yīng)用于透明，半透明或不透明物質(zhì)，觀察目標(biāo)：大于3 微米小于20微米，比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結(jié)構(gòu)、痕跡，都能有很好的成像效果。選配外置系統(tǒng)可以方便的連接視屏和計(jì)算機(jī)進(jìn)行實(shí)時(shí)和靜動(dòng)態(tài)的圖像觀察、保存和編輯、打印結(jié)合各種軟件能進(jìn)行更的金相、測(cè)量、互動(dòng)教學(xué)領(lǐng)域的需要。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
- 鏡筒：T三目，30度傾斜
- 大視野目鏡：WF10Xф18mm
- 平場(chǎng)物鏡： PLAN4X，PLAN10X，PLAN40X（S），PLAN100X（oil）（S）
- 轉(zhuǎn)換器：四孔
- 總放大倍數(shù)：40X—1000X
- 載物臺(tái)：尺寸185mmX140mm， 移動(dòng)范圍75mmX50mm
- 聚焦鏡：可調(diào)式阿貝聚焦鏡NA1.25，孔徑光闌，濾色片座
- 調(diào)焦：粗微動(dòng)同軸，升降范圍35mm，微動(dòng)格值0.002mm
- 光源：透反射照明鹵素?zé)?V20W，亮度可調(diào)
- 正交偏光裝置