除了對20-30mm高度的金屬試樣作分析鑒定外,由于符合人的日常習慣,因此更廣泛的應用于透明,半透明或不透明物質。大于3 微米小于20微米觀察目標,比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結構、痕跡,都能有很好的成像效果。
產(chǎn)品簡介
詳細介紹
- 鏡筒:T三目,30度傾斜
- 目鏡:WF10XΦ18mm
- 長工作距離平場物鏡:PL10X,PLL 20X,PLL 40X(S), PL100X(S)oil
- 轉換器:四孔
- 總放大倍數(shù):100X-1000X
- 載物臺:尺寸210mm×140mm,移動范圍 75mmX50mm
- 聚光鏡:可調式阿貝聚光鏡NA1.25,孔徑光闌,濾色片座
- 調焦: 粗微動同軸,升降范圍25mm,微動格值0.002mm,帶鎖緊和限位裝置
- 光源:透反射照明鹵素燈6V20W,亮度可調
- 正交偏光裝置