產(chǎn)品簡(jiǎn)介
本儀器除了對(duì)20-30mm高度的金屬試樣作分析鑒定外,由于符合人的日常習(xí)慣,因此更廣泛的應(yīng)用于透明,半透明或不透明物質(zhì)。大于3 微米小于20微米的觀察目標(biāo),比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結(jié)構(gòu)、痕跡,都能有很好的成像效果。
詳細(xì)介紹
- 鏡筒:B雙目,30度傾斜,360度旋轉(zhuǎn),輔助倍數(shù)1.25X
- 高眼點(diǎn)目鏡:PLAN10Xф20mm
- 長工作距離平場(chǎng)物鏡:PL4X,PL10X,PLL40X(S),PL100X(S)(oil)
- 轉(zhuǎn)換器:四孔
- 總放大倍數(shù):50X-1250X
- 載物臺(tái):尺寸160mmX140mm,移動(dòng)范圍75mmX50mm
- 聚焦鏡:可調(diào)式阿貝聚焦鏡NA1.25,孔徑光闌,濾色片座
- 調(diào)焦:粗微動(dòng)同軸,升降范圍20mm ,微動(dòng)格值0.002mm,帶鎖緊和限位裝置
- 光源:透反射柯勒照明,透射照明鹵素?zé)?2V20W,反射照明鹵素?zé)?2V50W,亮度可調(diào)
- 正交偏光裝置