本儀器廣泛的應(yīng)用于透明,半透明或不透明物質(zhì)。觀察目標(biāo):大于3 微米小于20微米,比如金屬陶瓷、電子芯片、印刷電路、LCD基板、薄膜、纖維、顆粒狀物體、鍍層等材料表面的結(jié)構(gòu)、痕跡,都能有很好的成像效果。
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
- 鏡筒:B雙目,傾斜30°(本儀器主機(jī)含三目攝像接筒裝置)
- 大視野目鏡:WF10Xф18mm
- 長工作距離平場物鏡:PL5X,PL10X,PLL20X,PLL40X(S),PLL80X(S)
- 轉(zhuǎn)換器:五孔
- 總放大倍數(shù):50X~800X
- 載物臺:三層機(jī)械移動(dòng),尺寸280×270mm,移動(dòng)范圍204mm×204mm
- 調(diào)焦:粗微動(dòng)同軸,升降范圍25mm,微動(dòng)格值0.0007mm,帶鎖緊和限位裝置
- 光源:反射柯勒照明,透反射照明鹵素?zé)?V20W,亮度可調(diào),反射照明帶起偏振片
- 正交偏光裝置