白光干涉儀

產品用途：
結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優(yōu)點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。

白光干涉儀產品用途：
結合光學顯微鏡與白光干涉儀功能的掃描式白光干涉顯微鏡，結合顯微物鏡與干涉儀、不需要復雜光調整程序，兼顧體積小、納米分辨率、易學易用等優(yōu)點，可提供垂直掃描高度達400um的微三維測量，適合各種材料與微組件表面特征和微尺寸檢測。應用領域包含：玻璃鏡片、鍍膜表面、晶圓、光碟/影碟、精密微機電元件、平面液晶顯示器、高密度線路印刷電路板、IC封裝、材料分析與微表面研究等。

產品特點:
● 納米深度3D檢測
● 高速、無接觸量
● 表面形狀、粗糙度分析
● 非透明、透明材質皆適用
● 非電子束、非雷射的安全量測
● 低維護成本

專業(yè)級的3D圖形處理與分析軟體（Post Topo）：
● 提供多功能又具友好界面的3D圖形處理與分析
● 提供自動表面平整化處理功能
● 提供高階標準片的軟件自校功能
● 深度、高度分析功能提供線性分析與區(qū)域分析等兩種方式
● 線性分析方式提供直接追溯ISO定義的表面粗糙度（Roughness）與起伏度
● （waviness）的測量分析。可提供多達17種的ISO量測參數與4種額外量測數據（Wafer）
● 區(qū)域分析方式提供圖形分析與統(tǒng)計分析
● 具有平滑化、銳化與數字過濾波等多種二維快速利葉轉換（FFT）處理功能
● 量測分析結果以BMP等多種圖形檔案格式輸出或是Excel文本文件格式輸出

高速精密的干涉解析軟件(ImgScan)：
● 系統(tǒng)硬件搭配ImgScan前處理軟件自動解析白光干涉條紋
● 垂直高度可達0.1nm
● 高速的分析算法則，讓你不在苦候測量結果
● 垂直掃描范圍的設定輕松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物鏡可供選擇
● 平臺X、Y、Z位置數字式顯示，使檢測目標尋找快速又便利
● 具有手動/自動光強度調整功能以取得*的干涉條紋對比
● 具有高精度的PVSI與高速VSI掃描測量模式供選擇
● 具有的解析算法則可處理半透明物體的3D形貌
● 具有自動補點功能
● 可自行設定掃描方向

技術規(guī)格參數：
 

型號	AE-100M
移動臺(mm)	平臺尺寸100*100 ，行程13*13
物鏡放大倍率	10X	20X	50X
觀察與量測范圍(mm)	0.43*0.32	0.21*0.16	0.088*0.066
光學分辨力(μm)	0.92	0.69	0.5
收光角度(Degrees)	17	23	33
工作距離	7.4	4.7	3.4
傳感器分辨率	640*480像素
機臺重量(kg)/載重kg	20kg/小于1kg
Z軸移動范圍	45mm , 手動細調;可訂制150mm
Z軸位置數字顯示器	分辨力1μm
傾斜調整平臺	雙軸/手動調整
高度測量
測量范圍	100(μm)(400μm ,選配)
量測分辨力	0.1nm
重復精度	≤ 0.1％ (量測高度:>10μm)
	≤10nm(量測高度1μm 10μm)
	≤ 5nm(量測高度:<1μm )
量測控制	自動
掃描速度(μm/s)	12(zui高)
光源
光源類型	儀器用鹵素（冷）光源
平均使用壽命	1000小時100W 500小時（150W）
光強度調整	自動/手動
數據處理與顯示用計算機
中央處理運算屏幕	雙核心以上CPU
影像與數據顯示屏幕	21" 雙晶屏幕
操作系統(tǒng)	Win7
電源與環(huán)境要求	AC100 --240 V 50-60Hz
環(huán)境振動	VC-C等級以上
測量分析軟件
量測軟件ImgScan	ImgScan測量軟件：具VSI/ PVSI/PSI 測量模式（PSI量測模式需另選配PSI模塊搭配）
分析軟件PosTopo	ISO 粗燥度/階高分析，快速傳利葉轉換和濾波，多樣的2D和3D 觀測視角圖，外形/面積/體積分析，圖像縮放、標準影像文件格式轉換 報表輸出，程序教導測量等。