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HFGS-6341電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀
參考價(jià): 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • HFGS-6341 產(chǎn)品型號(hào)
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  • 北京市 所在地

訪問(wèn)次數(shù):686更新時(shí)間:2024-11-14 10:59:22

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
產(chǎn)地類(lèi)別 國(guó)產(chǎn)
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀主要應(yīng)用在微電子、光電子生產(chǎn)線上和科研、教學(xué)等領(lǐng)域Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體基片及電子薄膜應(yīng)力分布、光學(xué)零件面形和平整度面形、 基片曲率半徑測(cè)量測(cè)試。該儀器總測(cè)量點(diǎn)數(shù)多,能給出場(chǎng)面型分布結(jié)果,適合于微電子生產(chǎn)線上產(chǎn)量的快速檢驗(yàn)和微電子生產(chǎn)研究。
產(chǎn)品介紹

型號(hào):HFGS-6341 貨號(hào):ZH9912 
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀主要應(yīng)用在微電子、光電子生產(chǎn)線上和科研、教學(xué)等領(lǐng)域Si、Ge、GaAs等半導(dǎo)體基片及電子薄膜應(yīng)力分布、光學(xué)零件面形和平整度面形、 基片曲率半徑測(cè)量測(cè)試。該儀器總測(cè)量點(diǎn)數(shù)多,能給出場(chǎng)面型分布結(jié)果,適合于微電子生產(chǎn)線上產(chǎn)量的快速檢驗(yàn)和微電子生產(chǎn)研究。
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀基于干涉計(jì)量的場(chǎng)測(cè)試原理,可實(shí)時(shí)觀測(cè)面型的分布,迅速了解被測(cè)樣品的形貌及應(yīng)力集中位置,及時(shí)淘汰早期失效產(chǎn)品。
電子薄膜應(yīng)力分布測(cè)試儀特點(diǎn)
計(jì)算機(jī)自動(dòng)條紋處理
測(cè)試過(guò)程自動(dòng)
曲面補(bǔ)償測(cè)試原理
指標(biāo)
樣品尺寸:≤100mm (4英寸)
曲率范圍:|R|≥5米
測(cè)試精度:5%
單片測(cè)量時(shí)間:3分鐘/片
結(jié)果類(lèi)型:面形、曲率半徑、應(yīng)力分布、公式表示、數(shù)據(jù)表格
圖形顯示功能:三維立體顯示、二維偽彩色顯示、單截面曲線顯示
電    源:AC 220V±10%, 50Hz±5%
功耗:100W
外型尺寸:(L×W×H) 285mm×680mm×450mm
重    量:36kg
 

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