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大面積可控單晶石墨烯多層堆垛制備技術新突破

時間:2020-12-14閱讀:894

       多層石墨烯及其堆垛順序具有*的物理性及全新的工程應用,可以將材料從金屬調(diào)控為半導體甚至具有超導性。石墨烯薄膜的性質(zhì)相對于層數(shù)及其晶體堆垛順序有很大變化。例如,單層石墨烯表現(xiàn)出*的載流子遷移率,對于超高速晶體管尤為重要。相比之下,AB堆垛的雙層或菱面體堆垛的多層石墨烯在橫向電場中顯示出可調(diào)的帶隙,從而產(chǎn)生了高效的電子和光子學器件。此外,有趣的量子霍爾效應現(xiàn)象也主要取決于其層數(shù)和堆垛順序。因此,對于大面積制備而言,能夠控制石墨烯的層數(shù)以及晶體堆垛順序是非常重要的。

       近日,韓國基礎科學研究所(IBS)Young Hee Lee教授和釜山國立大學Se-Young Jeong教授在期刊《Nature Nanotechnology》以“Layer-controlled single-crystalline graphene film with stacking order via Cu-Si alloy formation” 為題報道了采用化學氣相沉積的方法來實現(xiàn)大面積層數(shù)及堆垛方式可控的石墨烯薄膜的突破性工作。為石墨烯和其他2D材料層數(shù)的可控生長邁出了非常重要的步。

       文章提出了種基于擴散至升華(DTS)的生長理論,實現(xiàn)層數(shù)可控生長的關鍵是在銅箔基底上可控生長SiC合金,具體來講(如圖1所示),在CVD石英腔室內(nèi)原位形成Cu-Si合金,之后將CH4氣體引入反應室并催化成C自由基,形成SiC,隨后溫度升高至1075℃以分解Si-C鍵,由于蒸氣壓使Si原子升華。因此,C原子被留下來形成多層石墨烯晶種,在升華過程中,這些晶種橫向擴展到島中(步驟III),并擴展致邊緣。在給定的Si含量下注入不同濃度稀釋的CH4氣體,可以控制Si-Cu合金中石墨烯的層數(shù)。圖1e顯示了在步驟II中引入不同稀釋濃度CH4氣體時C含量的SIMS曲線,在較高CH4氣體濃度下,C原子更深地擴散到Cu-Si薄膜中,形成較厚的SiC層,然后生長較厚的石墨烯薄膜。由此實現(xiàn)可控的調(diào)節(jié)超低限CH4濃度引入C原子以形成SiC層,在Si升華后以晶圓尺寸生長1-4層石墨烯晶體。

                                               

  圖1. 不同生長過程中的光學顯微鏡結(jié)果,生長示意圖及XPS能譜和不同生長步驟中Si和C含量的二次離子質(zhì)譜SIMS曲線

 

       隨后,為了可視化堆垛順序并揭示晶體取向的*電子結(jié)構(gòu),進行了nano-ARPES光譜表征,系統(tǒng)研究了單層,雙層,三層和四層石墨烯的能帶結(jié)構(gòu)(圖2a-d),隨著石墨烯層數(shù)增加,上移的費米能逐漸下移。另外,分別根據(jù)G和2D峰之間的IG/I2D強度比和拉曼光譜二維模式的線形來確定石墨烯薄膜的層數(shù)和堆垛順序。IG/I2D隨著層數(shù)增加而增加(從0.25到1.5),并且2D峰發(fā)生紅移(從2676 cm-1到2699 cm-1)。后,雙層、三層和四層石墨烯的堆垛順序通過雙柵器件的電學測量得到了確認(圖2i-k)。在雙層石墨烯(圖2i)中,溝道電阻(在電荷中性點處)在高位移場下達到大值,從而允許使用垂直偶電場實現(xiàn)帶隙可調(diào)性。在三層器件上進行了類似的測量(圖2j),與AB堆垛的雙層相反,由于導帶和價帶之間的重疊,溝道電阻隨著位移增加而減小,這可以通過改變電場來控制,從而確認了無帶隙的ABA-三層石墨烯。在四層器件中也觀察到了類似的帶隙調(diào)制(圖2k),確認了ABCA堆垛順序。

 

圖2. 不同層數(shù)的石墨烯樣品的nano-ARPES,拉曼及電學輸運表征
 

       本文通過在Cu襯底表面上使用SiC合金實現(xiàn)了可控的多層石墨烯,其厚度達到了四層,并具有確定的晶體堆垛順序。略顯遺憾的是本文并沒有對制備的不同層數(shù)的石墨烯樣品進行電導率,載流子濃度及載流子遷移率的標準測試。值得指出的是,近期,西班牙Das-Nano公司基于THz-TDS技術研發(fā)推出了款可以實現(xiàn)大面積(8英寸wafer)石墨烯和其他二維材料全區(qū)域無損非接觸快速電學測量系統(tǒng)-ONYX。ONYX采用體化的反射式太赫茲時域光譜技術(THz-TDS)彌補了傳統(tǒng)接觸測量方法(如四探針法- Four-probe Method,范德堡法-Van Der Pauw和電阻層析成像法-Electrical Resistance Tomography)及顯微方法(原子力顯微鏡-AFM, 共聚焦拉曼-Raman,掃描電子顯微鏡-SEM以及透射電子顯微鏡-TEM)之間的不足和空白。ONYX可以快速測量從0.5 mm2到~m2的石墨烯及其他二維材料的電學性,為科研和工業(yè)化提供了種顛覆性的檢測手段。

 

 

ONYX主要功能:

 

→  直流電導率(σDC)

→  載流子遷移率, μdrift

→  直流電阻率, RDC

→  載流子濃度, Ns

→  載流子散射時間,τsc

→  表面均勻性

 

   

 

ONYX應用方向:

 

石墨烯光伏薄膜材料半導體薄膜電子器件

PEDOT鎢納米線GaN顆粒Ag 納米線

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