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近日,由英國科學(xué)院院士Russell Cowburn教授團(tuán)隊(duì)研制的小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)(Durham Magneto Optics, MicroWriter ML3)分別落戶中科院沈陽金屬所和合肥師范學(xué)院,將助力國內(nèi)各科研院所在新型材料加工、微納電子、光機(jī)電、微流控等諸多重點(diǎn)研究領(lǐng)域取得近一步發(fā)展。
小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)(MicroWriter ML3)進(jìn)入國內(nèi)科研領(lǐng)域已有十年時(shí)間,在國內(nèi)約有200臺(tái)設(shè)備安裝落戶。憑借小巧緊湊的結(jié)構(gòu)(70 cm x 70 cm x 70 cm)、友好的操作系統(tǒng)、簡單的維護(hù)需求、超高的直寫速度,特別是無需掩膜版即可直寫曝光的特點(diǎn)極大地優(yōu)化了設(shè)計(jì)成本和研究效率,深受廣大科研用戶的喜愛。在小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter優(yōu)秀表現(xiàn)和Quantum Design中國全博士售后工程師團(tuán)隊(duì)的努力下,清華大學(xué)、北京大學(xué)、中國科技大學(xué)、南京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、中科院等重點(diǎn)高校和研究機(jī)構(gòu)已復(fù)購多臺(tái)小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter,成為MicroWriter的“回頭客"。
圖1中科院沈陽金屬所安裝的配備0.4 μm鏡頭的MicroWriter旗艦型無掩膜光刻機(jī)
近日,中科院沈陽金屬所成功安裝了第一套小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter ML3。結(jié)合新硬件配置,該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)0.4 μm的極限分辨率,同時(shí)擁有包括0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm和5 μm五種特征分辨率鏡頭,可以實(shí)現(xiàn)不同精度下的快速曝光應(yīng)用。結(jié)合無掩膜版圖設(shè)計(jì),科研人員可以隨時(shí)嘗試修改曝光圖形,并可以通過設(shè)備*的虛擬掩膜(Visual Mask aligner)功能實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)對準(zhǔn)觀測(如圖2所示),極大地提高了科研工作的時(shí)效性和便捷性。
圖2. (左)虛擬掩膜對準(zhǔn)的實(shí)時(shí)界面(藍(lán)色區(qū)域是要曝光的電極圖案)及(右)終曝光顯影結(jié)果
圖3. 0.6 μm寬度的線條陣列曝光結(jié)果及局部細(xì)節(jié)
圖4. 0.4 μm孔徑的點(diǎn)陣曝光結(jié)果及局部細(xì)節(jié)
同時(shí),合肥師范學(xué)院根據(jù)自身教學(xué)與科研的需要選擇了小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)Baby Plus型號。相比于功能全面的MicroWriter旗艦機(jī)型,Baby Plus著重于客戶的基本需求。Baby Plus配備有1 μm和5 μm兩個(gè)精度的鏡頭,可以滿足大部分的科研需求。
圖5. Quantum Design工程師為合肥師范學(xué)院師生進(jìn)行無掩膜光刻機(jī)操作培訓(xùn)
這次在合肥師范學(xué)院安裝的MicroWriter Baby Plus配備的是405 nm波長光源,特別適用于在正性光刻膠上制備二維微納結(jié)構(gòu)和三維灰度結(jié)構(gòu),助力客戶在微納機(jī)電,微納光學(xué)等領(lǐng)域的研究以及小批量的試產(chǎn)。Baby Plus也可升級成365 nm波長光源或365 nm-405 nm波長雙光源,方便研究人員制備以負(fù)性光刻膠為主的結(jié)構(gòu),滿足客戶的各種需求。
圖6.左圖為利用405nm光源制備的微納電極圖形,右圖為三維灰度圖形
小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)MicroWriter的廣泛應(yīng)用在助力國內(nèi)科研發(fā)展的同時(shí),也在全球其他有名單位獲得持續(xù)應(yīng)用和好評,包括斯坦福大學(xué)、東京大學(xué)、新加坡國立大學(xué)、伯克利大學(xué)(UC Berkeley)和美國航天局(NASA)等,證明了國內(nèi)外研究單位對其廣泛應(yīng)用及可靠性的認(rèn)可。
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