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目錄:科睿設(shè)備有限公司>>鍍膜設(shè)備>> 離子束刻蝕設(shè)備

離子束刻蝕設(shè)備
  • 離子束刻蝕設(shè)備
  • 離子束刻蝕設(shè)備
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 上海市
屬性

應(yīng)用領(lǐng)域:電子,電氣,綜合

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更新時間:2025-02-27 11:17:24瀏覽次數(shù):1795評價

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離子束刻蝕設(shè)備
離子拋光
離子清洗
等離子體灰化
等離子體氧化、氮化
表面改性
反應(yīng)刻蝕
生物醫(yī)藥
傳感器

離子束刻蝕設(shè)備

儀器應(yīng)用:
離子拋光
離子清洗
等離子體灰化
等離子體氧化、氮化
表面改性
反應(yīng)刻蝕
生物醫(yī)藥
傳感器


離子束刻蝕設(shè)備技術(shù)參數(shù):
1,真空系統(tǒng):
尺寸: 72英寸X 50英寸
真空泵:分子泵+機械泵
本底真空:1X10E-7Torr
2, 樣品臺:
樣品大?。?50mm
處理角度:0-180度
旋轉(zhuǎn)速度:0-20RPM
冷卻:水冷
3, 離子源
孔徑:22厘米
柵格:2個,鉬材質(zhì)
激發(fā):RF射頻
電性中和:PBN
束流: 200-1000V, 0-1000mA
工作氣體:Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS終點監(jiān)測

主要特點:
RF or DC 離子源, 8-22厘米Gridded Kaufman離子源
單片樣品傳輸腔
高效率高產(chǎn)量,低能量等離子體源
最大直徑至150毫米樣品表面處理
<3% 非均勻性
水冷,傾斜,旋轉(zhuǎn)
操作簡便,小型設(shè)備,皮實耐用
SIMS終點監(jiān)測
全部電腦操作
反應(yīng)離子刻蝕
單片樣品臺/三片行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺


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