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目錄:科睿設(shè)備有限公司>>光刻機(jī),勻膠機(jī)>> UV-Writer無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)

無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)
  • 無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)
  • 無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)
參考價(jià) 800000
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
800000
≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) UV-Writer
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 產(chǎn)品資料 查看pdf文檔
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時(shí)間:2025-02-27 16:39:21瀏覽次數(shù):2549評(píng)價(jià)

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無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)是一個(gè)高價(jià)值的直寫激光光刻機(jī)系統(tǒng),面向大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)尋求擴(kuò)大他們的能力。
它用亞微米像素分辨率的405nm激光在光敏抗蝕劑涂層表面大面積書寫。你可以寫任何東西,從光掩模到基礎(chǔ)科學(xué)或應(yīng)用科學(xué)的研究原型,集成相機(jī)可以用來(lái)調(diào)整現(xiàn)有的功能寫。

無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng)

直接激光直寫光刻

直接激光光刻技術(shù)通過(guò)消除光掩模生產(chǎn)對(duì)外部供應(yīng)商的依賴,大大降低了微流體、微電子、微機(jī)械和材料科學(xué)研究等領(lǐng)域的成本和執(zhí)行時(shí)間。


無(wú)掩膜光刻機(jī), 激光直寫系統(tǒng),其控制軟件在PC上提供。它允許您從GDSII文件的單元格或直接從PNG圖像導(dǎo)入要寫入的設(shè)計(jì)。

一切都是通過(guò)一個(gè)用戶友好的圖形界面來(lái)完成的,它允許您在執(zhí)行之前預(yù)覽要編寫的設(shè)計(jì)。

除了對(duì)每個(gè)設(shè)計(jì)應(yīng)用旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)或比例調(diào)整等變換外,還可以在單個(gè)過(guò)程中組合多個(gè)設(shè)計(jì)。

在確定了設(shè)計(jì)方案后,采用了所包含的工作臺(tái)控制模塊和共焦顯微鏡。

使用它們,您可以設(shè)置基片上工藝的原點(diǎn)位置和感光表面上的焦平面。

接下來(lái)執(zhí)行該過(guò)程并將設(shè)計(jì)寫在表面上。


技術(shù)指標(biāo):

XY工作臺(tái)

典型寫入速度:100-120 mm/s

最大面積:100x92 mm^2

最小面積:沒(méi)有最小面積

單向定位臺(tái)階:X=0.16µmY=1.00µm

慢速X軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

快速Y軸上的機(jī)械噪聲:<1µm

多層對(duì)準(zhǔn)精度:5-10µm(可選旋轉(zhuǎn)臺(tái),便于對(duì)準(zhǔn))

實(shí)際最小特征尺寸:6-15µm,取決于特征(示例見下圖)

軟件

支持的格式:PNG、GDSII

在軟件轉(zhuǎn)換:,旋轉(zhuǎn)、反射、反轉(zhuǎn)、重縮放、添加邊框

-可以在一個(gè)進(jìn)程中編寫來(lái)自不同文件的多個(gè)設(shè)計(jì)

-通過(guò)3點(diǎn)線性或4點(diǎn)雙線性聚焦測(cè)量進(jìn)行傾斜/翹曲基板補(bǔ)償

-全床曲率補(bǔ)償?shù)木W(wǎng)格型標(biāo)定

光學(xué)

-激光波長(zhǎng):405nm(可選375nm

-激光聚焦、對(duì)準(zhǔn)和檢測(cè)用共焦顯微鏡

-二次獨(dú)立黃色照明

-激光光斑尺寸可以使用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡物鏡改變

精度:

-精細(xì):0.8µm

-介質(zhì):2µm

-粗粒:5µm

大面積包含目標(biāo)的有效書寫速度(單向書寫):

-精細(xì):1.7 mm^2/min

-中等:4.25 mm^2/min

-粗糙度:10.6 mm^2/min

在雙向?qū)懭肽J较滤俣燃颖丁?/span>




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