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微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000
  • 微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000
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貨物所在地:北京北京市

地: 北京

更新時間:2023-10-16 21:00:07

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日立NE4000 nanoEBAC是一種基于電子束吸收電流的探針檢測系統(tǒng),用于電氣特性評價,電子束吸收電流分析以及微電子器件連接線,材料,成分的成像。

微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000 特點

  • 采用日立技術(shù)的高效電子束吸收電流表征放大器,生成優(yōu)質(zhì)電子束吸收電流表征圖像。
  • 直觀的圖形用戶界面,具有各種圖像和顏色處理功能。
  • 具有現(xiàn)場考驗實績,低色差,低加速電壓下成像所需的冷場發(fā)射電子槍,減小電路的電子束損傷。
  • 高精度納米探測裝置。
  • 通過樣品室內(nèi)CCD相機(jī)系統(tǒng)實現(xiàn)探測位置的初始定位。


電子束吸收電流表征技術(shù)提供了一種快速,有效地識別內(nèi)部連接開路,高電阻以及短路的方法,無需低平層的直接探測技術(shù)。EBAC技術(shù)利用電子束穿過絕緣層,使低位的金屬層吸收電子束電流。
通過場發(fā)射掃描電子顯微鏡的加速電壓,控制電子束穿透電介質(zhì)層的探測深度。單個探針放置于外露的上層金屬薄膜上,形成閉合回路,以便電子流過連接線。使用兩個探針和日立技術(shù)的差動電子束吸收電流表征放大器,可產(chǎn)生賽貝克效應(yīng),從而觀察高電阻和短路情況。

 

應(yīng)用數(shù)據(jù)(Renesas電子公司樣品)


采用彩色顯示功能,對4層鋁質(zhì)連接線進(jìn)行電子束吸收電流表征成像。
*電流放大器圖像

 

微小器件特性評價裝置nanoEBAC NE4000 規(guī)格

日立

探測裝置
裝置編號 4
驅(qū)動方法 壓電式
微動行程范圍 5μm (X,Y)
粗動行程范圍 6mm (X,Y)
樣品臺/基座臺
樣品尺寸 25mm × 25mm × 1mm 厚或更薄
橫向位置 測量/樣品交換位置
樣品交換 氣鎖交換室
探針導(dǎo)航 樣品臺平移探針定位
測量位置記憶
探針粗調(diào)
CCD圖像顯示 橫向圖像顯示
電子光學(xué)
電子槍 場發(fā)射電子源
加速電壓 0.5kV to 30kV
分辨率 15nm (2kV,工作距離為15mm)
圖像移動 ±150μm (2kV,工作距離為15mm)
電子束吸收電流放大器/圖像顯示
放大器類型 電流放大器/差動放大器
圖像顯示 SEM/EBAC(單一/并列/疊加)
圖像處理 黑白反轉(zhuǎn)顯示,彩色顯示,亮度調(diào)節(jié),積分慢掃描,層區(qū)掃描


 

尺寸與重量

主機(jī) 1,100(W)× 1,550(D)× 1,750(H)mm,
850kg
顯示裝置 1,000(W)× 1,005(D)× 1,200(H)mm,
265kg

安裝環(huán)境要求

室溫 15至25 ºC
濕度 相對濕度不高于60%
電源 AC100V±10% 5kVA (M5接線端子)
接地電阻 不高于100Ω

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