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光學懸滴分析法測量臨界膠束濃度

閱讀:866        發(fā)布時間:2021-10-19
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  • 提供商

    北京東方德菲儀器有限公司

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臨界膠束濃度(CMC)是用于測量和表征表面活性劑的重要參數,必須通過實驗來確定。 所有測量 CMC 的方法中,基于表面界面張力測量 CMC 的方法是常見的一種。傳統(tǒng)上,采 用 DuNoüy 環(huán)法或 Wilhelmy 片法來確定表界面張力,但無論是 DuNoüy 環(huán)法或 Wilhelmy 片 法都不適合于測量含有表面活性劑的溶液。Wilhelmy 片法遇到的問題是表面活性劑分子會 吸附在 Wilhelmy 板金屬(通常是鉑金)表面上,這會導致明顯的測量誤差,甚至可能會影響 溶液中表面活性劑的濃度。DuNoüy 環(huán)法原則上僅適用于單組分(即純凈)液體,當涉及表 面活性劑時,通常難以*清潔環(huán),此外,也不可能獲得特定的動態(tài)或平衡狀態(tài)相對應的表 面張力值。


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