輝光放電發(fā)射光譜儀是一種用于機(jī)械工程領(lǐng)域的分析儀器。主要是檢測(cè)鍍層厚度及化學(xué)成分 金屬材料基體化學(xué)成分。那你知道輝光放電的主要原理是什么嗎？

　　輝光放電腔室內(nèi)充滿(mǎn)低壓氬氣，當(dāng)施加在放電兩極的電壓達(dá)到一定值，超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電，放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場(chǎng)的作用下，正電荷離子加速轟擊到(陰極)樣品表面，產(chǎn)生陰極濺射。在放電區(qū)域內(nèi)，濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。

　　整個(gè)過(guò)程是動(dòng)態(tài)的，氬氣離子持續(xù)轟擊樣品表面并濺射出樣品粒子，樣品粒子持續(xù)進(jìn)入等離子體進(jìn)行激化發(fā)光，不斷有新的層在被濺射，從而獲得鍍層元素含量隨時(shí)間的變化曲線。

　　輝光放電等離子體有雙重作用，一是剝蝕樣品表面顆粒；二是激發(fā)剝蝕下來(lái)的樣品顆粒。在空間和時(shí)間上分離剝蝕和激發(fā)對(duì)于輝光放電操作非常重要。剝蝕發(fā)生在樣品表面，激發(fā)發(fā)生在等離子體中，這樣的設(shè)計(jì)可以很好地抑制基體效應(yīng)。

　　氬氣是輝光放電很常用的氣體，價(jià)格也相對(duì)便宜。氬氣可以激發(fā)除氟元素外所有的元素，如需測(cè)試氟元素或是氬元素時(shí)需采用氖氣作為激發(fā)氣體。有時(shí)也會(huì)使用混合氣體，如Ar+He非常適合于分析玻璃，Ar+H2可提高硅元素的檢出，Ar+O2會(huì)應(yīng)用到某些特殊的領(lǐng)域。

　　光譜儀的主要功能是通過(guò)收集和分光檢測(cè)來(lái)自等離子體的光以實(shí)現(xiàn)連續(xù)不斷監(jiān)控樣品成分的變化。光譜儀的探測(cè)器必須能夠快速響應(yīng)，實(shí)時(shí)高動(dòng)態(tài)的觀測(cè)所有元素隨深度的變化。輝光放電光譜儀中多色儀是儀器的重要組成部分，是實(shí)現(xiàn)高動(dòng)態(tài)同步深度剖析的保障。而光柵是光譜儀的核心，光柵的好壞決定了光譜儀的性能，如光譜分辨率、靈敏度、光譜儀工作范圍、雜散光抑制等。輝光放電是一種較弱的信號(hào)，光通量的大小對(duì)儀器的整體性能有至關(guān)重要的影響。