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HORIBA | 貼息貸款儀器 | 橢圓偏振光譜儀
產(chǎn)品名稱:橢圓偏振光譜儀
產(chǎn)地:法國
型號:UVISEL PLUS
典型用戶:NASA 戈達德太空飛行中心
01 儀器用途及應(yīng)用范圍:
UVISEL 是20 多年技術(shù)積累和發(fā)展的結(jié)晶,即使在透明的基底上也能對超薄膜進行精確的測量。作為一款高準確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。
先進功能材料
薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
材料/ 表面改性研究
粗糙度、孔隙率表征
漸變層、界面層等分析
穿過率、反射率曲線測量
汽車
薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
表面粗糙度、孔隙率表征
漸變層、界面層分析
透射率、反射率測量
涂層及鍍層分析
半導(dǎo)體材料
硅片上SiO2 薄膜厚度監(jiān)控
光刻膠n,k(190-2100nm)
SiN,SiO2 等膜厚測試
第三代半導(dǎo)體外延薄膜厚度
能源/光伏
薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征
工藝對鍍膜的影響分析
漸變層、界面層等分析
膜層不均勻性成像分析
在線監(jiān)測
02 產(chǎn)品特點
50 KHz 高頻PEM 相調(diào)制技術(shù),測量光路中無運動部件
具備超薄膜所需的測量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率
多個實用微光斑尺寸選項
可用于在線實時監(jiān)測
自動平臺樣品掃描成像、變溫臺、電化學(xué)反應(yīng)池、液體池、密封池等
配置靈活,測量范圍可擴展至190 nm~2100 nm
03 索取樣本、聯(lián)系報價
如果您想了解更多關(guān)于產(chǎn)品儀器信息、索要儀器報價,歡迎掃描二維碼留言,我們的工程師將會及時與您取得聯(lián)系。