HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部

HORIBA | 貼息貸款儀器 | 橢圓偏振光譜儀

時(shí)間:2022-11-23 閱讀:605
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    產(chǎn)品名稱:橢圓偏振光譜儀

    產(chǎn)地:法國

    型號(hào):UVISEL PLUS


典型用戶:NASA 戈達(dá)德太空飛行中心


01 儀器用途及應(yīng)用范圍:



UVISEL 是20 多年技術(shù)積累和發(fā)展的結(jié)晶,即使在透明的基底上也能對(duì)超薄膜進(jìn)行精確的測量。作為一款高準(zhǔn)確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經(jīng)典橢偏機(jī)型,它采用了PEM 相位調(diào)制技術(shù),與機(jī)械旋轉(zhuǎn)部件技術(shù)相比, 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。


先進(jìn)功能材料

薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

材料/ 表面改性研究

粗糙度、孔隙率表征

漸變層、界面層等分析

穿過率、反射率曲線測量


汽車

薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

表面粗糙度、孔隙率表征

漸變層、界面層分析

透射率、反射率測量

涂層及鍍層分析


半導(dǎo)體材料

硅片上SiO2 薄膜厚度監(jiān)控

光刻膠n,k(190-2100nm)

SiN,SiO2 等膜厚測試

第三代半導(dǎo)體外延薄膜厚度


能源/光伏

薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)表征

工藝對(duì)鍍膜的影響分析

漸變層、界面層等分析

膜層不均勻性成像分析

在線監(jiān)測


02 產(chǎn)品特點(diǎn)


50 KHz 高頻PEM 相調(diào)制技術(shù),測量光路中無運(yùn)動(dòng)部件

具備超薄膜所需的測量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率

多個(gè)實(shí)用微光斑尺寸選項(xiàng)

可用于在線實(shí)時(shí)監(jiān)測

自動(dòng)平臺(tái)樣品掃描成像、變溫臺(tái)、電化學(xué)反應(yīng)池、液體池、密封池等

配置靈活,測量范圍可擴(kuò)展至190 nm~2100 nm


03 索取樣本、聯(lián)系報(bào)價(jià)


如果您想了解更多關(guān)于產(chǎn)品儀器信息、索要儀器報(bào)價(jià),歡迎掃描二維碼留言,我們的工程師將會(huì)及時(shí)與您取得聯(lián)系。

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