當(dāng)前位置:HORIBA科學(xué)儀器事業(yè)部>>輝光放電光譜儀>> Profiler 2Profiler 2射頻輝光放電光譜儀
GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導(dǎo)體(和/或)非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析??煞治?0多種元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次測(cè)試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。
GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度,深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外,還采用了多項(xiàng)技術(shù),如高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD)可測(cè)試ppm-100%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片、硬盤、有機(jī)鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。
GD-Profiler 2射頻輝光放電光譜儀技術(shù)參數(shù):
1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,表面信息無(wú)任何失真。
2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道(同時(shí))光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有zui大的光通量,因而擁有的光效率和靈敏度。
5、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD)可快速、高靈敏的檢測(cè)ppm-100%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告。
8、HORIBA*的單色儀(選配)可大地提高儀器靈活性,可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試,稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。
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