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[供應(yīng)]PGS/PGM 200真空紫外光譜儀返回列表頁

貨物所在地：上海上海市

更新時(shí)間：2024-09-22 21:00:05

有效期：2024年9月22日 -- 2025年3月22日

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PGS/PGM 200真空紫外光譜儀產(chǎn)品簡介

PGS/PGM 200光譜儀憑借優(yōu)異的消像差設(shè)計(jì)，可實(shí)現(xiàn)一機(jī)兩用，配合單通道探測(cè)器作為單色儀，配合CCD使用作為攝譜儀。光路由一片平面光柵和一片超環(huán)面鏡組成，為紫外光譜分析優(yōu)化設(shè)計(jì)。掠入射光路設(shè)計(jì)將可探測(cè)波長拓展到4nm，與此同時(shí)，攝譜儀模式下焦平面垂直于出射光軸，使CCD上接受的光通量zui大化。

PGS/PGM 200真空紫外光譜儀技術(shù)特點(diǎn)
    HJY的消像差平面光柵結(jié)合超環(huán)面鏡，同時(shí)兼顧高分辨率和低像差。
    在軸設(shè)計(jì)，光路易準(zhǔn)直。
    出射光直射CCD表面，光通量大。
    只需更換出射狹縫和法蘭，即可實(shí)現(xiàn)單色儀和攝譜儀之間的切換，一機(jī)兩用。
    支持超高真空10^-9mbar，可接入同步輻射裝置。

典型應(yīng)用
    X射線光電子能譜
    等離子體物理研究
    高次諧波濾波
    紫外反射
    EUV光源表征

技術(shù)指標(biāo)

三塊標(biāo)準(zhǔn)光柵可選
54401010	1800 gr/mm 光柵，攝譜儀模式下光譜范圍：4-16.5nm (75-310eV) 或 4-26nm (47-310eV) 出射端口色散：0.4-0.68nm/mm 分辨率：0.2nm
54402010	800 gr/mm光柵，攝譜儀模式下光譜范圍：10-35 nm (35–124eV) 或10-56nm (22-124eV) 出射端口色散：1.0 – 1.14m/mm 分辨率：0.3nm
54406010	450 gr/mm光柵，攝譜儀模式下光譜范圍：16-65 nm (7–80eV) 或 16-103nm (12-77eV) 出射端口色散：1.7–2.7m/mm 分辨率：0.5nm
光學(xué)設(shè)計(jì)	HJY平面光柵加超環(huán)面鏡光路設(shè)計(jì)
焦長	200 mm
孔徑	f/17
分辨率	低至0.2nm
波長驅(qū)動(dòng)	步進(jìn)電機(jī)
高真空	10^-6 mbar
真空泵法蘭	DN63 LF
狹縫	測(cè)微狹縫
陣列探測(cè)器法蘭	DN100CF/ICF152
可選項(xiàng)
狹縫	自動(dòng)或固定
超高真空	10^-9 mbar，配備DN100CF真空泵法蘭和DN40CF真空計(jì)接口

單色儀模式下測(cè)得的30.4nm 氦譜線

附件
    前鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)光源和單色儀之間的光學(xué)匹配
    后鏡腔，配備兩塊超環(huán)面鏡，實(shí)現(xiàn)單色儀和樣品室之間的光學(xué)匹配
    樣品室，可搭載4塊直徑不大于25mm的樣品
    偏振插片
    制冷機(jī)，zui低至4K
    真空泵