質(zhì)譜干擾包括同質(zhì)異位素干擾、氧化物干擾、氫化物干擾、雙電荷離子干擾、多原子離子干擾等。消除或減小質(zhì)譜干擾的方法有：選擇測定質(zhì)量數(shù)、加干擾校正方程、基體分離、冷電等離子體技術(shù)、等離子體屏蔽技術(shù)、碰撞/反應(yīng)池技術(shù)等；采用高分辨率質(zhì)譜儀也能有效降低質(zhì)譜干擾。
非質(zhì)譜干擾主要是基體效應(yīng)，分為物理效應(yīng)和質(zhì)量歧視效應(yīng)（包括空間電荷效應(yīng)和離子傳輸效率）。消除非質(zhì)譜干擾的方法有：稀釋法、基體匹配法、標(biāo)準(zhǔn)加入法、內(nèi)標(biāo)法、同位素稀釋法、分離基體等。
PlasmaQuant MS ICP-MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀具有：獲得穩(wěn)定強(qiáng)勁的等離子體所消耗氬氣量僅為常規(guī)儀器的一半；集成化的碰撞反應(yīng)池系統(tǒng)，可高效、安全、快速、方便地消除干擾：3D聚焦離子反射鏡獲得的靈敏度；真正3MHz四極桿提供更好的質(zhì)量分離效果；11個數(shù)量及的線性動態(tài)范圍等特點。這些技術(shù)的采用讓PlasmaQuant MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜儀在靈敏度、線性范圍、檢出限、穩(wěn)定性等方面更上一個新臺階。其還可配備潔凈室組件、樣品導(dǎo)入系統(tǒng)、自動進(jìn)樣器等配件，可靈活、快速實現(xiàn)普通靈敏度模式和高靈敏度模式之間的切換，滿足日常分析和研究級的各種應(yīng)用。
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