光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。

中文名稱：雙［4-(1,1-二甲基乙基)苯基］碘鎓與三氟甲磺酸鹽

英文名 Bis(4-tert-butylphenyl)iodoniumtrifluoromethanesulfonate

別稱：雙(4-叔丁苯基)碘鎓三氟甲磺酸鹽

CAS號(hào)：84563-54-2

分子量：542.394

密度：N/A

沸點(diǎn)：N/A

分子式：C21H26F3IO3S

熔點(diǎn)：237ºC(lit.)

MSDS：N/A

閃點(diǎn)：N/A

AZ4620光刻膠

AZ5214光刻膠

KMPR 1000系列  負(fù)性光刻膠

PermiNex 1000系列  負(fù)性光刻膠

SU-8 3050 負(fù)性光刻膠

SU-8 2002 2015 2050光刻膠

SU-8 3010 負(fù)性光刻膠

SU-8 3035 3025光刻膠

SU-8 3050 3035 3010負(fù)性光刻膠

AR-P617 電子束光刻膠

電子束及深紫外光刻膠ma-N 2400系列

電子束光刻膠 CABL-9000C 

光刻膠SPR955系列 正性

電子束光刻膠 ma-N 2400 MR-EBL 6000系列

光刻膠 SPR 955

以上來(lái)自瑞禧生物WFF