秉承著諸多飛納電鏡客戶的殷切期盼，近年來(lái)持續(xù)擴(kuò)大投入研發(fā)，如今已取得重大突破！2017年 4 月 12 日，飛納電鏡于蘇州金雞湖凱賓斯基大酒店舉行盛大的新品發(fā)布會(huì)事宜！

　　此次新品發(fā)布會(huì)延續(xù)了飛納電鏡一貫的“多，快，好，省”原則，同時(shí)在目前已有操作簡(jiǎn)單(智能化)，分辨率高，信噪比高，整體穩(wěn)定性強(qiáng)，對(duì)環(huán)境兼容性大，*防震，后期維護(hù)方便等基礎(chǔ)上，進(jìn)一步創(chuàng)新，發(fā)布了以下三款創(chuàng)新產(chǎn)品。

　　● 高分辨率專業(yè)版 Phenom Pro + SED

　　飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pro 以其*的背散射成像(BSE)已經(jīng)在廣大用戶群體中收獲了非常良好的口碑，如今又在 BSE 基礎(chǔ)上增添了二次電子成像( SED ),二次電子成像( SED )具有怎樣優(yōu)異的性能?其首先采用了更優(yōu)化的真空系統(tǒng)減小殘留空氣對(duì)電子束的散射，從而提高圖像信噪比，同時(shí)可利用更小束斑成像，大幅度提高分辨率。其次采用了更優(yōu)化的燈絲束流控制系統(tǒng)，提高了發(fā)射束流的單色性，降低了成像系統(tǒng)的相差，從而更大程度的減小了束斑成像。

● 全自動(dòng)顯微平臺(tái) Phenom XL + 可傾斜旋轉(zhuǎn)的優(yōu)中心樣品杯

飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL 具有很強(qiáng)的后期可拓展性，其中此次即將發(fā)布的新產(chǎn)品就是針對(duì)Phenom XL 的一個(gè)拓展。該優(yōu)中心樣品杯采用了*的設(shè)計(jì)，它包含了一個(gè)可以測(cè)試優(yōu)中心傾斜和旋轉(zhuǎn)的子樣品臺(tái)，可以在一分鐘內(nèi)實(shí)現(xiàn)裝卸樣品。優(yōu)中心樣品杯的傾斜和旋轉(zhuǎn)意義重大，可以從不同角度來(lái)觀察樣品，比如測(cè)量樣品的深度、高度和厚度特征，檢查鍍層之間或零件之間的連接情況。在能譜元素分析中，傾斜功能也同樣十分有用。不平整樣品可以通過(guò)傾斜，使被分析面變得水平，從而提高能譜元素分析的準(zhǔn)確度。

飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL 優(yōu)中心樣品杯
 

　　● 全自動(dòng)顯微平臺(tái)Phenom XL + 拉伸臺(tái)
 

　　飛納電鏡此次的新品發(fā)布會(huì)上會(huì)呈現(xiàn)的第三個(gè)產(chǎn)品就是拉伸臺(tái)，此產(chǎn)品也是飛納臺(tái)式掃描電鏡Phenom XL 一項(xiàng)重大拓展。拉伸臺(tái)是一種動(dòng)態(tài)觀察和分析材料微觀變形形貌及斷裂機(jī)制的手段,在材料科學(xué)前沿研究中發(fā)揮了重要作用。掃描電鏡原位拉伸臺(tái)的zui大特點(diǎn)是,在進(jìn)行應(yīng)力—應(yīng)變力學(xué)定量測(cè)試的同時(shí), 利用掃描電鏡的強(qiáng)大的景深、高空間分辨和分析功能，在微觀層面上對(duì)材料的力學(xué)性能進(jìn)行動(dòng)態(tài)研究。拉伸臺(tái)可以為很多材料做拉伸測(cè)試，如金屬材料(研究韌斷過(guò)程、應(yīng)力誘發(fā)相變及塑性變形),高分子材料，陶瓷材料等。飛納臺(tái)式掃描電鏡的原位拉伸臺(tái)能實(shí)現(xiàn) 2N to 1000N 的拉力區(qū)間，拉伸速度可實(shí)現(xiàn) 0.1mm/min 到 15mm/min，滿足幾乎所有領(lǐng)域樣品的原位拉伸觀測(cè)。

飛納臺(tái)式掃描電鏡 Phenom XL 拉伸臺(tái)
 

　　飛納電鏡一貫秉承的“多，快，好，省”原則
 

　　“多”——多人，多用，多功能
 

　　“快”——快學(xué)，快測(cè)，快結(jié)果
 

　　“好”——好準(zhǔn)，好穩(wěn)，好管理
 

　　“省”——省錢，省心，省空間
 

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