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離子減薄儀- TEM 樣品制備

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào):Unimill

品       牌:Technoorg Linda

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:上海市

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更新時(shí)間:2023-11-15 18:02:47瀏覽次數(shù):1271次

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產(chǎn)地類(lèi)別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 100萬(wàn)-150萬(wàn)
減薄角度 0-40° 離子能量 0.1-16Kev
應(yīng)用領(lǐng)域 電子,冶金,航天,綜合
Technoorg Linda UniMill 離子減薄儀專(zhuān)為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM/XTEM 樣品而設(shè)計(jì)。 Unimill 既可以使用超高能離子槍進(jìn)行快速研磨,也可以使用專(zhuān)用的低能離子槍進(jìn)行最終拋光和精修處理。

Unimill 離子減薄儀--用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動(dòng)離子束減薄系統(tǒng)

 

Technoorg Linda UniMill 離子減薄儀專(zhuān)為快速地制備具備高減薄率的、高質(zhì)量的 TEM/XTEM 樣品而設(shè)計(jì)。 Unimill 既可以使用超高能離子槍進(jìn)行快速研磨,也可以使用專(zhuān)用的低能離子槍進(jìn)行最終拋光和精修處理。

 

離子減薄儀.jpg

產(chǎn)品特色:

·可直接使用同一臺(tái)儀器進(jìn)行快速減薄和拋光/精細(xì)處理

·支持全自動(dòng)的離子槍參數(shù)設(shè)置和手動(dòng)調(diào)節(jié)離子束研磨參數(shù)

·具備廣泛的離子槍能量范圍: 低能離子槍與超高能離子槍結(jié)合,能量范圍可達(dá) 100 eV ~ 16 keV

·具備高的切削率

·可選擇配備 LN2 液氮制冷

 

離子槍優(yōu)勢(shì)

UniMill 包括兩支獨(dú)立控制的離子槍?zhuān)阂恢Ц吣芑虺吣茈x子槍和一支低能離子槍。

高能和超高能離子槍

Unimill 的高能和超高能離子槍提供了最高的研磨率。高達(dá) 16 keV 的離子槍專(zhuān)為要求極低研磨速率的 TEM 樣品制備而設(shè)計(jì)。

低能離子槍

離子槍的特殊結(jié)構(gòu)可在整個(gè)制備過(guò)程中形成高束流密度。能量極低的離子束保證了表面損傷和離子束誘導(dǎo)非晶化效應(yīng)的最小化。

離子槍控制

所有離子槍參數(shù),如加速電壓和離子束電流在內(nèi)均由智能反饋回路控制,但始終可以在樣品制備過(guò)程中進(jìn)行手動(dòng)調(diào)節(jié)。離子槍參數(shù)的初始值支持自動(dòng)設(shè)置或手動(dòng)調(diào)節(jié),同時(shí)可在電腦上連續(xù)監(jiān)控和顯示。

 

性能參數(shù)

 

離子槍

超高能離子槍?zhuān)蛇x):

  • 離子束能量:高達(dá)16 keV,連續(xù)可調(diào)

  • 離子束電流:高達(dá) 500 μA

  • 離子束直徑:1.6 - 1.8 mm (FWHM)

高能離子槍?zhuān)?biāo)配):

  • 離子束能量:高達(dá)10 keV,連續(xù)可調(diào)

  • 離子束電流:高達(dá) 300 μA

  • 離子束直徑:0.9 - 1.3 mm (FWHM)

低能離子槍?zhuān)?/p>

  • 離子束能量:100 eV - 2 keV,連續(xù)可調(diào)

  • 離子束電流:7 - 80 μA

  • 離子束直徑:1.5 - 2.2 mm (FWHM)

 

樣品臺(tái)

  1. 切削角度:0°- 40°,每 0.1° 連續(xù)可調(diào)

  2. 電腦控制的平面內(nèi)樣品旋轉(zhuǎn)和移動(dòng):

  3. 360° 旋轉(zhuǎn)

  4. 從±10° 到±120° 移動(dòng),每 10° 連續(xù)可調(diào)

  5. 可兼容的 TEM 樣品厚度范圍 (30 - 200 μm)

 

成像系統(tǒng)

• 用于全視覺(jué)控制和切削監(jiān)控/終止的 CMOS 相機(jī)圖像

• 高分辨率彩色 CMOS 相機(jī)

• 50 - 400 倍放大范圍的手動(dòng)變焦視頻鏡頭

 

電腦控制

• 內(nèi)置工業(yè)級(jí)計(jì)算機(jī)

• 簡(jiǎn)單便捷的圖形界面和圖像分析模塊

• 支持用戶(hù)手動(dòng)調(diào)節(jié)離子槍參數(shù),包括氣流調(diào)節(jié)

• 用于自動(dòng)設(shè)置機(jī)械和切削參數(shù)的預(yù)編程方案(可以

手動(dòng)調(diào)整)

• 自動(dòng)樣品加載

• 自動(dòng)終止:圖像分析模塊支持的切削過(guò)程的光學(xué)終止

( 通過(guò)檢測(cè)薄區(qū)穿孔或監(jiān)測(cè)表面形貌)

 

供氣系統(tǒng)

• 99.999% 純氬氣,絕對(duì)壓力為 1.3 - 1.7 bar

• 帶有電子出口壓力監(jiān)測(cè)功能的惰性氣體專(zhuān)用壓力調(diào)節(jié)器

•工作氣體流量高精準(zhǔn)控制

 

真空系統(tǒng)

• Pfeiffer 真空系統(tǒng)配備無(wú)油隔膜和渦輪分子泵,配備緊湊

的全范圍 Pirani/Penning 真空計(jì)

電源要求

• 100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

 

成像案例

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