大氣等離子清洗設(shè)備，如今應(yīng)用多的就是手機(jī)行業(yè)：手機(jī)玻璃表面活化處理，底板點(diǎn)膠前處理，封裝前端處理，手機(jī)殼表面噴漆前活化處理等等。一般的手機(jī)工廠每日幾千到幾萬的產(chǎn)能，就必須要有快速高效的活化處理工藝，大氣等離子清洗機(jī)就是為此而生的。無論配合在三軸平臺(tái)，傳輸機(jī)還是裝在整條流水線上，大氣等離子清洗機(jī)都能快速使被處理材料其中一個(gè)表面達(dá)到很好的活化效果。
真空等離子清洗設(shè)備是以其高性能，高質(zhì)量，還有過硬的品質(zhì)，以及安全的產(chǎn)品為特點(diǎn)，處理效果比較精密全面，很多的產(chǎn)品它本身的材質(zhì)問題，所以不能使用像大氣等離子設(shè)備那樣的溫度相對(duì)來說比較高一點(diǎn)的等離子處理設(shè)備，這樣的時(shí)候可以選擇真空等離子清洗設(shè)備。
常壓等離子表面處理機(jī)與真空等離子清洗機(jī)的區(qū)別詳細(xì)如下
一、由于常壓等離子清洗機(jī)的噴嘴中是直噴出的離子，這種情況由噴嘴的結(jié)構(gòu)間接的改變了離子的運(yùn)動(dòng)方向（直接面對(duì)被處理材料）。從而使大氣等離子處理設(shè)備在流水線上只能處理一個(gè)表面，這也是 常壓等離子表面處理機(jī)與真空等離子清洗的區(qū)別之一。真空等離子清洗機(jī)在工作中，腔體內(nèi)部的離子是不定向的，只要材料在腔體裸露出的部分，等離子清洗機(jī)不管是哪個(gè)面哪個(gè)角落都可以清洗得到。
二、在使用氣體方面， 常壓等離子表面處理機(jī)工作時(shí)只需要接入壓縮空氣，當(dāng)然想效果更好直接接入氮?dú)狻６婵招偷入x子清洗機(jī)在氣體上會(huì)有更多的選擇，并且可以選擇多種氣體進(jìn)行匹配對(duì)材料表面氧化物、納米級(jí)別微生物的去除有著*的改善。在這里要強(qiáng)調(diào)的是： 常壓等離子表面處理機(jī)通入氣體的目的主要是為了活化，侵潤性增強(qiáng)。而真空型等離子清洗設(shè)備通入氣體的目的是為了增強(qiáng)蝕刻效果，去除污染物，去除有機(jī)物，侵潤性增強(qiáng)等。顯然氣體的選擇范圍更廣，真空等離子清洗設(shè)備會(huì)應(yīng)用得更為廣泛。
三、溫度。大氣等離子清洗機(jī)雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右，但這個(gè)數(shù)據(jù)是按照噴槍距離材料15mm，功率在500W，配合在三軸速度為120mm/s來測的。當(dāng)然功率，接觸時(shí)間，處理的高度都會(huì)對(duì)溫度有所影響。特別注意的是：大氣等離子清洗機(jī)噴槍工作時(shí)的噴出的“火焰”分為內(nèi)焰和外焰，我們清洗時(shí)都是拿外焰去洗，內(nèi)焰在噴嘴里面，從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長時(shí)間對(duì)著某一個(gè)點(diǎn)不運(yùn)動(dòng)進(jìn)行處理很容易對(duì)表面產(chǎn)生灼燒。所以大氣等離子處理設(shè)備的溫度要在實(shí)際工況下才能測得具體數(shù)值。
而真空型等離子清洗機(jī)就沒那么復(fù)雜，按電源頻率劃分，40KHz和13.56MHz為例：通常情況下材料放入腔體內(nèi)工作，頻率為40KHz一般溫度為65°以下，再者機(jī)器內(nèi)部裝有強(qiáng)冷風(fēng)扇，處理時(shí)間不長的話，材料表面溫度都會(huì)跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會(huì)更低，通常情況是30°以下。所以處理一些受熱易發(fā)生形變的材料，低溫真空型等離子清洗機(jī)的是在再適合不過了。
四、離子產(chǎn)生條件，這個(gè)比較直觀的就可以看出， 常壓等離子表面處理機(jī)依賴接入氣體，氣體壓力要達(dá)到0.2mpa左右才可以產(chǎn)生離子。而真空型等離子清洗機(jī)則依賴于真空泵，產(chǎn)生離子之前，即使不接入任何外接氣體，要將腔體內(nèi)部的真空度抽到25pa以下才能產(chǎn)生離子。
簡單的說就是大氣等離子清洗機(jī)快速量產(chǎn)，真空等離子清洗機(jī)精密全面
