等離子清洗設備 改性去膠機器 返回列表頁

等離子清洗設備 改性去膠機器清洗產(chǎn)品表面污染物，提高表面活性，增強附著性能

等離子清洗機適用于處理多種類型材料，包括：塑料、橡膠、金屬、玻璃、陶瓷、聚合物以及幾何形狀各異的材料表面清洗、活化、沉積、去膠、刻蝕、接枝聚合、疏水、親水、金屬還原、去除有機物、鍍膜前處理、器械消毒等等

等離子清洗機實現(xiàn)清潔、活化去膠、刻蝕功效

等離子清洗設備 改性去膠機器用于集成電路、半導體生產(chǎn)中晶圓的清潔去膠、硅片去除污染物和氧化物、提高粘接率，等離子清洗設備 改性去膠機器能夠?qū)ξ⒖?、狹縫等細小的空間進行處理，具有高度活性、效率高，且不會對電子裝置產(chǎn)生離子損害。 通過工藝驗證，微波等離子清洗機降低了接觸角度，提高了引線鍵合強度。

等離子清洗機的相關(guān)應用    

晶圓光刻膠清洗：晶圓在封裝前采用等離子清洗機處理能去除表面的無機物和污染物，氧化層還原，銅表面的粗糙度提高，產(chǎn)品的可靠性提高。

等離子清洗機器的應用包括預處理、灰化/光致抗蝕劑/聚合物剝離、芯片碰撞、靜電消除、介質(zhì)蝕刻、有機污染去除、芯片減壓等。使用等離子清洗機不僅能去除光致抗蝕劑和其他有機物質(zhì)，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的潤濕性，使芯片表面更有粘合力。

微波等離子清洗機在封裝工藝中的應用：1. 防止包封分層2. 提高焊線質(zhì)量3. 增加鍵合強度

等離子清洗設備 改性去膠機器清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導體器件，有效地去除表面的污垢和有機物，同時也能增強表面的附著力和表面能，廣泛應用于半導體、光電、微電子等領(lǐng)域。