GDR系列低溫等離子表面處理設(shè)備由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到30-40pa 的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)），其顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的彩色可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

小型等離子清洗設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：

• 表面清潔 (Plasma Cleaning)
• 表面活化 (Plasma Activation)
• 表面蝕刻 (Plasma Etching)

• 表面鈍化 (Plasma

• 小型等離子清洗設(shè)備適用于PCB 制造、半導(dǎo)體/LED制造、TSP/OLED 設(shè)備、真空等離子噴涂系統(tǒng)。涂層 (Plasma Coating)

科研用小型真空等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于：1．等離子表面活化/清洗； 2.等離子處理后粘合； 3. 等離子蝕刻/活化；4. 等離子去膠；  5. 等離子涂鍍(親水,疏水)； 6. 增強(qiáng)邦定性；7.等離子涂覆； 8.等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。  小型等離子清洗機(jī)比超聲波更環(huán)保更高等級(jí)的清洗機(jī)（處理機(jī)），不需要清洗劑，對(duì)環(huán)境沒有任何污染，使用成本低廉，能提高產(chǎn)品檔次，提高產(chǎn)品質(zhì)量，解決行業(yè)技術(shù)難題。

本公司不僅提供標(biāo)準(zhǔn)的等離子清洗機(jī)，且可根據(jù)用戶的需求進(jìn)行不同的定制設(shè)計(jì)從而滿足客戶特定的生產(chǎn)環(huán)境和處理工藝需求。目前等離子表面處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗，等離子表面活化，表面改性，等離子刻蝕等