低溫等離子體表面處理設(shè)備能使材料表面發(fā)生多種的物理、化學(xué)變化，或產(chǎn)生刻蝕而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團(tuán)，使親水性、粘結(jié)性、可染色性、生物相容性及電性能分別得到改善。

等離子清洗機(jī)清洗去除硅膠片上元件表面的光敏有機(jī)資料制造的光刻膠。

等離子清洗機(jī)器針對材料表面進(jìn)行清潔、蝕刻、涂層、聚合處理。

等離子清洗機(jī)去除光刻膠

等離子清洗機(jī)灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸點(diǎn)、消除靜電、介電質(zhì)刻蝕、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。使用等離子清洗機(jī)不僅去除光刻膠和其他有機(jī)物，而且活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性。

Plasma等離子清洗機(jī)能夠有效的在高分子材料表面引入新的官能團(tuán)或者改變表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)，進(jìn)而改善高分子材料的生物相容性

本公司不僅提供標(biāo)準(zhǔn)的等離子清洗機(jī)，且可根據(jù)用戶的需求進(jìn)行不同的定制設(shè)計從而滿足客戶特定的生產(chǎn)環(huán)境和處理工藝需求。