韓國(guó)X光測(cè)厚儀供應(yīng)

韓國(guó)XRF-2000電鍍膜厚儀

設(shè)備用用途：

測(cè)量鍍金,鍍銀,鍍鎳,鍍鋅,鍍銅,鍍錫,鍍鈀等

可測(cè)單鍍層，雙鍍層，多鍍層，合金鍍層等。

XRF-2000電鍍膜厚儀共三款型號(hào) 

XRF-2000鍍層測(cè)厚儀H型:測(cè)量樣品高度不超過10cm

XRF-2000電鍍測(cè)厚儀L型:測(cè)量樣品高度不超過3cm

XRF-2000電鍍膜厚儀PCB型:測(cè)量樣品高度不超3cm

儀器功能

 全自動(dòng)臺(tái)面

自動(dòng)雷射對(duì)焦

多點(diǎn)自動(dòng)測(cè)量 (方便操作人員準(zhǔn)確快捷檢測(cè)樣品）

測(cè)量樣品高度3cm 10cm 15cm 20cm 以內(nèi)四種規(guī)格可選

鍍層厚度測(cè)試范圍：0.03－35um

可測(cè)試單層，雙層，多層及合金鍍層厚度

每層鍍層都可分開顯示各自厚度.

測(cè)量時(shí)間：10－30秒

韓國(guó)XRF-2000電鍍膜厚儀精度：

*層：±5%以內(nèi)

第二層：±8%以內(nèi)

第三層：±15%以內(nèi)

電鍍是利用電解的原理將導(dǎo)電體鋪上一層金屬的方法。

除了導(dǎo)電體以外，電鍍亦可用于經(jīng)過特殊處理的塑膠上。

電鍍的過程基本如下：

鍍層金屬在陽極

待鍍物質(zhì)在陰極

陰陽極以鍍上去的金屬的正離子組成的電解質(zhì)溶液相連

通以直流電的電源后，陽極的金屬會(huì)氧化（失去電子）

溶液中的正離子則在陰極還原（得到電子）成原子并積聚在陰極表層。

電鍍后被電鍍物件的美觀性和電流大小有關(guān)系，電流越小，被電鍍的物件便會(huì)越美觀；

反之則會(huì)出現(xiàn)一些不平整的形狀。

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