赫爾納供應(yīng)德國(guó)SENTECH等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500，德國(guó)總部直接采購(gòu)，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，在中國(guó)設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

赫爾納供應(yīng)德國(guó)SENTECH等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500

 

赫爾納供應(yīng)德國(guó)SENTECH 等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500，德國(guó)總部直接采購(gòu)，近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型，為您提供一對(duì)一好的解決方案：貨期穩(wěn)定，快速報(bào)價(jià)，價(jià)格優(yōu)，在中國(guó)設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

公司簡(jiǎn)介：SENTECH是一家專注于等離子蝕刻設(shè)備研發(fā)和生產(chǎn)的公司，其產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、材料科學(xué)等領(lǐng)域。SENTECH等離子蝕刻機(jī)以其高精度、高穩(wěn)定性和多功能性而著稱。

 

德國(guó)SENTECH等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500產(chǎn)品類別：等離子蝕刻

ICPECVD 系統(tǒng)

原子層沉積系統(tǒng)

用于等離子蝕刻和沉積的集群配置

質(zhì)量控制計(jì)量

橢圓偏振光譜儀

光譜反射計(jì)

激光橢偏儀

原位計(jì)量/端點(diǎn)檢測(cè)

 

主要型號(hào)：SI 500 ICP-RIE

ICP-RIE SI 500

 Etchlab 200 RIE

 

德國(guó)SENTECH 等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500產(chǎn)品介紹： SI 500 ICP-RIE 等離子刻蝕機(jī)

型號(hào): ICP-RIE SI 500

等離子源: PTSA（三螺旋平行板天線）等離子源

襯底溫度控制: 動(dòng)態(tài)溫度控制的襯底電極，溫度范圍從-150°C至+400°C

真空系統(tǒng): 全自動(dòng)控制的真空系統(tǒng)

控制軟件: 使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)的SENTECH控制軟件

用戶界面: 用戶友好的通用接口

靈活性和模塊化: 設(shè)計(jì)特點(diǎn)為靈活性和模塊化

適用材料: 可用于加工各種材料，包括三五族化合物半導(dǎo)體（GaAs, InP, GaN, InSb）、介質(zhì)、石英、玻璃、硅和硅化合物（SiC, SiGe）、金屬等

特點(diǎn):

高離子密度和低離子能量的均勻等離子體

高耦合效率和非常好的起輝性能

單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件

切換工藝非常容易

 

優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：高密度等離子體: 產(chǎn)生高離子密度和低離子能量分布均勻的等離子體

納米結(jié)構(gòu)損傷小: 由于離子能量分布較低，可以實(shí)現(xiàn)低損傷蝕刻和納米結(jié)構(gòu)

簡(jiǎn)單高速腐蝕: 高長(zhǎng)徑比MEMS用硅的高速率蝕刻

室溫工藝或光滑側(cè)壁的低溫工藝: 可選擇不同的工藝條件

靈活性和模塊化設(shè)計(jì): 可根據(jù)需求進(jìn)行升級(jí)和擴(kuò)展

 

德國(guó)SENTECH 等離子刻蝕機(jī) ICP-RIE SI 500主要應(yīng)用：半導(dǎo)體制造: 用于半導(dǎo)體器件的刻蝕工藝

微電子加工: 用于微電子器件的精細(xì)加工

材料科學(xué): 用于各種材料的表面處理和刻蝕

科學(xué)研究: 用于實(shí)驗(yàn)室中的材料研究和工藝開發(fā)

 

赫爾友道，融中納德-----我們無假貨，我們價(jià)格實(shí)惠，我們品質(zhì)好！