| 注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏該商鋪

行業(yè)產(chǎn)品

當(dāng)前位置:
北京華科易通分析儀器有限公司>>商機(jī)中心>>供應(yīng)列表>>HK-2000ICP光譜儀
[供應(yīng)]HK-2000ICP光譜儀
舉報(bào)
返回列表頁
  • HK-2000ICP光譜儀
貨物所在地:
北京北京市
更新時(shí)間:
2023-11-22 21:00:05
有效期:
2023年11月22日 -- 2024年5月22日
已獲點(diǎn)擊:
292
在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品

(聯(lián)系我們,請(qǐng)說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝!)

產(chǎn)品簡介

ICP作為一種大型精密無機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè),以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè),出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

詳細(xì)介紹

ICP的形成和結(jié)構(gòu)

a ICP的形成

ICP裝置由三部分組成:

Ø高頻發(fā)生器和感應(yīng)線圈

Ø炬管和供氣系統(tǒng)

Ø進(jìn)樣系統(tǒng)。

    高頻發(fā)生器的作用是產(chǎn)生高頻磁場以供給等離子體能量。

應(yīng)用zui廣泛的是利用石英晶體壓電效應(yīng)產(chǎn)生高頻振蕩的他激式

高頻發(fā)生器,其頻率和功率輸出穩(wěn)定性高。頻率多為27-40

MHz,zui大輸出功率通常是1-1.5kW。

  • 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),良好的控制系統(tǒng):保證定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;                                             
  • 采用進(jìn)口的關(guān)鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
  • 極小的基體效應(yīng):99%的試樣不用分離基體;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
  • 良好的測量精度:相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.50%;
  • 穩(wěn)定性:相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2.00% ;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達(dá)25個(gè)以上;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
  • 可做定性或定量分析;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺(tái)下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能,對(duì)輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。
  • HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。

    等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈(內(nèi)通冷卻水)當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時(shí),其周圍產(chǎn)生交變磁場,使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子,在磁場作用下加速運(yùn)動(dòng)與其它中性原子碰撞,產(chǎn)生更多的電子和離子,在炬管內(nèi)形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達(dá)8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進(jìn)入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級(jí)躍遷到基態(tài),將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強(qiáng),通過計(jì)算由步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)光柵傳動(dòng)機(jī)構(gòu),準(zhǔn)確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏鳎俳?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后,由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,zui后由打印機(jī)打出分析結(jié)果。

    1.主要技術(shù)指標(biāo)

    掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm

               光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

    波長示值誤差:±0.03nm,重復(fù)性≤0.005nm。

    zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。

    重復(fù)性:相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤1.50%

    穩(wěn)定性:相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤2.00%

收藏該商鋪

請(qǐng) 登錄 后再收藏

提示

您的留言已提交成功!我們將在第一時(shí)間回復(fù)您~
二維碼 意見反饋
在線留言