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行業(yè)產(chǎn)品

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[供應(yīng)]hk-2001等離子發(fā)射光譜儀
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  • hk-2001等離子發(fā)射光譜儀
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2023-11-22 21:00:05
有效期:
2023年11月22日 -- 2024年5月22日
已獲點(diǎn)擊:
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(聯(lián)系我們,請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息,謝謝?。?/p>

產(chǎn)品簡介

ICP作為一種大型精密無機(jī)分析儀器,廣泛應(yīng)用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產(chǎn)品、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)、石油、化工等行業(yè),以及商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業(yè),出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

詳細(xì)介紹

    單道掃描等離子光譜儀,具有一個通道,在儀器的焦平面上只安裝一個出射狹縫、一個光電倍增管及其相應(yīng)的檢測電路。分析不同的元素時可根據(jù)其譜線波長的大小相應(yīng)轉(zhuǎn)動光柵衍射角,待測元素的分析線按波長順序依次落到出射狹縫上,從而可以在從真空紫外到近紅外波段的廣闊范圍內(nèi)任意選擇譜線。根據(jù)譜線強(qiáng)度,可算出相應(yīng)的元素的含量。

原子發(fā)射光譜分析的優(yōu)點(diǎn):

  ① 具有多元素同時檢測能力??赏瑫r測定一個樣品中的多種元素。

  ② 分析速度快??稍趲追昼妰?nèi)同時對幾十種元素進(jìn)行定量分析。

  ③ 檢出限低。一般光源可達(dá)10~0.1mg/mL, 電感耦合高頻等離子體原子發(fā)射光譜(ICP-AES)檢出限可達(dá)ng/mL級。

  ④準(zhǔn)確度較高。一般光源相對誤差約為5%~10%,ICP-AES相對誤差可達(dá)l%以下。

  ⑤試樣消耗少。

  ⑥ ICP光源校準(zhǔn)曲線線性范圍寬可達(dá)4~6個數(shù)量級。

  • 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),良好的控制系統(tǒng):保證定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;                                             
  • 采用進(jìn)口的關(guān)鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
  • 極小的基體效應(yīng):99%的試樣不用分離基體;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
  • 良好的測量精度:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.50%;
  • 穩(wěn)定性:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤2.00% ;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達(dá)25個以上;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
  • 可做定性或定量分析;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)提供多種功能,對輸出數(shù)據(jù)可任意選擇打印。
  • 1.儀器組成及工作原理

    HK-8100型等離子體發(fā)射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。

    等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈(內(nèi)通冷卻水)當(dāng)高頻發(fā)生器產(chǎn)生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時,其周圍產(chǎn)生交變磁場,使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子,在磁場作用下加速運(yùn)動與其它中性原子碰撞,產(chǎn)生更多的電子和離子,在炬管內(nèi)形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達(dá)8000K以上。待測水溶液經(jīng)噴霧器形成氣溶膠進(jìn)入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下,使原子電離,即處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定。從較高能級躍遷到基態(tài),將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強(qiáng),通過計算由步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動光柵傳動機(jī)構(gòu),準(zhǔn)確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏?,再?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后,由計算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,zui后由打印機(jī)打出分析結(jié)果。

    2.主要技術(shù)指標(biāo)

    掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm

               光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

    波長示值誤差:±0.03nm,重復(fù)性≤0.005nm。

    zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。

    重復(fù)性:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤1.50%

    穩(wěn)定性:相對標(biāo)準(zhǔn)偏差 RSD≤2.00%

 

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