隨著ICP-AES的流行使很多的分析家在問購買一臺ICP-AES是否是明智之舉.還是留在原來可信賴的AAS上?，F在一個新技術lCP-MS已呈現在世上，雖然價格較高，但ICP-MS具有ICP-AES的優(yōu)點及比石墨爐原子吸收(GFAAS)更低的檢出限。

　　ICP-MS是一個以質譜儀作為檢測器的等離子體(ICP)，而質譜學家則認為ICP-MS是一個以ICP為源的質譜儀。事實上，ICP-AES和ICP-MS的進樣部分及等離子體是極其相似的。ICP-AES測量的是光學光譜(165～800nm)，ICP-MS 測量的是離子質譜，提供在3～250amu范圍內每一個原子質量單位(amu)的信息，因此，ICP-MS除了元素含量測定外，還可測量同位素。

　　檢出限

　　ICP-MS的檢出限給人極深刻的印象，其溶液的檢出限大部份為ppt級(必需記牢，實際的檢出限不可能優(yōu)于你實驗室的清潔條件)，石墨爐AAS的檢出限為亞ppb級，ICP-AES大部份元素的檢出限為1～10ppb，一些元素在潔凈的試樣中也可得到令人注目的亞ppb級的檢出限。必須指出，ICP- MS的ppt級檢出限是針對溶液中溶解物質很少的單純溶液而言的，若涉及固體中濃度的檢出限，由于ICP-MS的耐鹽量較差，ICP-MS檢出限的優(yōu)點會變差多達50倍，一些普通的輕元素(如，S、Ca、Fe、K、Se)在ICP-MS中有嚴重的干擾，也將惡化其檢出限。

　　干擾

　　以上三種技術呈現了不同類型及復雜的干擾問題.為此，我們對每個技術分別予以討論。ICP-MS的干擾

　　1.質譜干擾

　　ICP-MS中質譜的干擾(同量異位素干擾)是預知的，而且其數量少于300個，分辨率為0.8amu的質譜儀不能將它們分辨開，例如，58Ni對58Fe、 40Ar對40Ca、40Arl60對56Fe或40Ar-Ar對80Se的干擾(質譜疊加)。元素校正方程式(與ICP-AES中干擾譜線校正相同的原理)可用來進行校正，選擇性地選用一些低自然豐度的同位素、采用“冷等離子體炬焰屏蔽技術”或“碰撞池技術”可有效地降低干擾影響。

　　2.基體酸干擾

　　必須指出，HCI、HCIO4、H3PO4和H2S04將引起相當大的質譜干擾。Cl+、P+、S+離子將與其他基體元素Ar+、O+、H+結合生成多原子，例如，35Cl 40Ar對7s、35Cl160對51V的疊加干擾。因此，在ICP-MS的許多分析中避免使用HCl、HClO4、H3PO4和H2SO4是至關重要的，但這是不可能的。克服這個問題的方法有“碰撞池技術”、在試樣導入ICP之前使用色譜(微栓)分離、電熱蒸發(fā)(ETV)技術等，另外一個比較昂貴的選擇是使用高分辯率的扇形磁場的ICP-MS，它具有分辯小于0.01amu的能力，可以清除許多質譜的干擾。ICP-MS分析用的試液通常用硝酸來配制。

　　3.雙電荷離子干擾

　　雙電荷離子產生的質譜干擾是單電荷離子M/Z的一半，例如138Ba2+對69Ga+，或208pb2+對104Ru+。這類干擾是比較少的，而且可以在進行分析前將系統(tǒng)*化而有效地消除。

　　4.基體效應

　　試液與標準溶液粘度的差別將改變各個溶液產生氣溶膠的效率，采用基體匹配法或內標法可有效地消除。

　　5.電離干擾

　　電離干擾是由于試樣中含有高濃度的第1族和第1I族元素而產生的，采用基體匹配、稀釋試樣、標準加入法、同位素稀釋法、萃取或用色譜分離等措施來解決是有效的。

　　6.空間電荷效應

　　空間電荷效應主要發(fā)生在截取錐的后面，在此處的凈電荷密度明顯的偏離了零。高的離子密度導致離子束中的離子之間的相互作用，形成重離子存在時首先損失掉輕離子，例如，Pb+對Li3+?；w匹配或仔細在被測物質的質量范圍內選用內標有助于補嘗這個影響，但這在實際應用是有困難的。同位素稀釋法雖有效.但費用高，簡單而有效的方法是稀釋樣品。

　　lCP-AES干擾

　　1. 光譜干擾

　　ICP-AES的光譜干擾其數量很大而較難解決，有記錄的ICP-AES的光譜譜線有50000多條，而且基體能引起相當多的問題。因此，對某些樣品，例如，鋼鐵、化工產品及巖石的分析必須使用高分辯率的光譜儀。廣泛應用于固定通道ICP-AES中的干擾元素校正能得到有限度的成功。ICP-AES中的背景較高，需離線背景校正，應用動態(tài)背景校正對增進準確度是很有效的。各種分子粒子(如，OH)的譜峰或譜帶對某些低含量的被測元素會引起一些分析問題，影響其在實際樣品中檢出限。

　　在ICP-MS中的背景是相當低的，典型的是小于5 C/S(計數/秒)，這就是ICP-MS具有*的檢出限的一個主要理由。

　　2.基體效應

　　與ICP-MS一樣，ICP-AES可以應用內標來解決例如霧化室效應、試樣與標準溶液之間粘度差異所帶來的基體效應。

　　3.電離干擾

　　仔細選用每個元素的分析條件或加入電離緩衡劑(如，過量的I族元素)可以減少易電離元素的影響。

　　GFAAS干擾

　　1.光譜干擾

　　使用氘燈背景校正的GFAAS有少許光譜干擾，但使用Zeeman背景校正的GFAAS能去除這些干擾。

　　2.背景干擾

　　在原子化過程中，針對不同的基體，應仔細設定灰化步聚的條件以減少背景信號。采用基體改進劑有助于增加可以容許的灰化溫度。在很多GFAAS應用中，與氘燈扣背景相比，Zeeman扣背景可得到更好的準確度。

　　3.氣相干擾

　　這是由于被測物質的原子蒸汽進入一個較冷的氣體環(huán)境而形成的。現在采用等溫石墨管設計和平臺技術，試樣被原子化后進入一個熱的惰性氣體環(huán)境，可有效減少這種干擾。

　　4.基體效應

　　基體效應是被測物質在石墨管上不同的殘留而生成的，它取決于樣品的種類，應用基體改性劑和熱注射能十分有效地減少這些影響。

　　容易使用

　　在日常工作中，從自動化來講，lCP-AES是成熟的，可由技術不熟練的人員來應用ICP-AES專家制定的方法進行工作。ICP-MS的操作直到現在仍較為復雜，自1993年以來，盡管在計算機控制和智能化軟件方面有很大的進步，但在常規(guī)分析前仍需由技術人員進行精密調整，ICP-MS的方法研究也是很復雜及耗時的工作。GFAAS的常規(guī)工作雖然是比較容易的，但制定方法仍需要相當熟練的技術。

　　試樣中的總固體溶解量TDS

　　在常規(guī)工作中，ICP-AES可分析10%TDS的溶液，甚至可以高至30%的鹽溶液。在短時期內ICP-MS可分析0.5%的溶液，但大部分分析人員樂于采用多0.2%TDS的溶液。當原始樣品是固體時，與ICP-AES，GFAAS相比，ICP-MS需要更高倍數的稀釋.其折算到原始固體樣品中的檢出限顯示不出很大優(yōu)勢的現象也就不令人驚奇了。

　　線性動態(tài)范圍LDR

　　ICP-MS具有超過下的五次方的LDR，各種方法可使其LDR開展至十的八次方，但不管如何，對ICP-MS來說：高基體濃度會導致許多問題，而這些問題的解決方案是稀釋，正由于這個原因，ICP-MS應用的主要領域在痕量/超痕量分析。

　　GFAAS的LDR限制在2-3個數年量級，如選用次靈敏線可進行高一些濃度的分析。ICP-AES具有5個以上數量級的LDR且抗鹽份能力強，可進行痕量及主量元素的測定，ICP-AES可測定的濃度高達百分含量，因此，ICP-AES外加ICP-MS，或GFAAS可以很好地滿足實驗室的需要。

　　精密度

　　ICP-MS的短期精密度一般是1-3%RSD，這是應用多內標法在常規(guī)工作中得到的。長期(幾個小時)精密度為小于5%RSD。使用同位素稀釋法可以得到很好的準確度和精密度，但這個方法的費用對常規(guī)分析來講是太貴了。

　　ICP-AES的短期精密度一般為0.3～2%RSD，幾個小時的長期精密度小于3%RSD。GFAAS的短期精密度為0.5-5%RSD，長期精密度的因素不在于時間而視石墨管的使用次數而定。

　　樣品分析能力

　　ICP-MS有驚人的能力來分析大量測定痕量元素的樣品，典型的分析時間為每個樣品小于5分鐘，在某些分析情況下只需2分鐘。Consulting實驗室認為ICP-MS的主要優(yōu)點即是其分析能力。

　　ICP-AES的分析速度取決于是采用全譜直讀型還是單道掃描型，每個樣品所需的時間為2或6分鐘，全譜直讀型較快，一般為2分鐘測定一個樣品。

　　GFAAS的分析速度為每個樣品中每個元素需3～4分鐘，晚上可以自動工作，這樣保證對樣品的分析能力。

　　根據溶液的濃度舉例如下，以參考：

　　1.每個樣品測定1～3個元素，元素濃度為亞或低于ppb級，如果被測元素要求能滿足的情況下，GFAAS是合適的。

　　2.每個樣品5～20個元素，含量為亞ppm至%，ICP-AES是合適的。

　　3.每個樣品需測4個以上的元素，在亞ppb及ppb含量，而且樣品的量也相當大，ICP-MS是較合適的。

　　由于是快速掃描測定方式，ICP-MS能對多元素模式中的瞬間信號進行測量，這就為大量附件打開了出路，電熱蒸法、激光消蝕、輝光放電及火花消蝕等技術可以免除樣品的溶解過程。有些附件可以將樣品中的基體物質進行分離或進行預富集，例如，氫化法、色譜(高壓液相HPLC、離子色譜、微栓)等。

　　用色譜來分離的好處在ICP-MS中得到*的實現，它適合用于環(huán)保，毒理學，藥品及食品中低濃度的被測物質。

　　雖然，ICP-AES也能采用上述的某些附件，但由于這些附件的價格及有限的好處，因此，很少看到它們在lCP-AES的常規(guī)分析中應用。