高沸點石油化工產(chǎn)品及其衍生物中痕量元素的檢測是一項挑戰(zhàn)性工作，目前檢測手段主要為AAS、ICP-OES、EDXRF等。 樣品測量結(jié)果與樣品前處理息息相關(guān)。前處理方法包括稀釋樣品，灰化法分解樣品，濕法分解樣品等。但是這些前處理手段都有其不足之處，如高溫易揮發(fā)元素損失、耗時、使用 的酸易污染等。 溶劑稀釋是一種快速、簡單的方法，但是稀釋樣品，由于基體效應等因素很容易造成測量結(jié)果誤差過大，并且由于樣品的稀釋，容易導致樣品中本來就含量很低的目標元素低于儀器的檢出限，從而造成該元素無法檢測。因此，找到一種兼顧檢出能力且前處理簡單的檢測方法變得猶為重要。
全反射X熒光(TXRF)分析原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對比的是，傳統(tǒng)能譜采用原級X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。
TX2000全反射X熒光光譜儀可檢測從鈉Na到钚Pu所有元素含量，可進行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg)，廣泛的應用在環(huán)境分析(水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物)，制藥分析(生物體液和組織樣品中的有害元素)，法醫(yī)學(微小證據(jù)分析)，化學純度分析(酸、堿、鹽、溶劑、水、超純試劑)，油品分析(原油、輕質(zhì)油、燃料油)，染料分析(墨水、油漆、粉末)，半導體材料分析(揮發(fā)相分解)，核材料工業(yè)(放射性元素分析)。
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