根據直讀光譜儀誤差的性質及產生原因， 誤差可分為下面幾種：

　　1.系統(tǒng)誤差的來源
　　(1)標樣和試樣中的含量和化學組成不相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
　　(2)標樣和試樣的物理性能不相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產生系統(tǒng)誤差。
　　(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數據會有所差別。
  　(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
　　(5)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。

　　2.偶然誤差的來源
　　與樣品成分不均勻有關的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生偶然誤差。主要原因如下：
　　(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分布不均。
　　(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
　　(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
　　(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來降低分析誤差。

　　3.其他因素誤差
　　(1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結果會變差。
　　(2)室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電、放電現象，使分析結果不穩(wěn)定。