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IMPAC IGA 6/23光學(xué)高溫計:高溫材料制備時的非接觸真空測溫方案

閱讀:153      發(fā)布時間:2025-5-26
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隨著先進材料科學(xué)的發(fā)展,對高溫過程的精確控制提出了更高的要求。無論是二維材料的金屬嵌入、半導(dǎo)體界面調(diào)控,還是新型磁性納結(jié)構(gòu)的構(gòu)建,高溫環(huán)境下的過程控制都是決定最終結(jié)構(gòu)與性能的關(guān)鍵因素。在此背景下,IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學(xué)高溫計,以其非接觸、高精度、響應(yīng)快等特性,成為眾多科研項目及工業(yè)應(yīng)用的優(yōu)選測溫設(shè)備。

精準(zhǔn)控溫,保障石墨烯多層結(jié)構(gòu)制備質(zhì)量


在近期發(fā)表于 Nanotechnology 的研究中,研究團隊在碳化硅基底上構(gòu)建了石墨烯/鈷/鉑(G/Co/Pt)多層異質(zhì)結(jié)構(gòu),并對其結(jié)構(gòu)、化學(xué)與磁性能開展系統(tǒng)研究。為實現(xiàn)對Pt與Co金屬層的嵌入式重構(gòu)(intercalation),實驗過程中需要在超高真空環(huán)境下精確加熱至700–900°C。


在該過程中,IMPAC IGA 6/23 光學(xué)高溫計承擔(dān)了關(guān)鍵任務(wù):

  • 實時監(jiān)測樣品表面溫度

  • 確保金屬嵌入的溫控窗口精度控制在 ±1°C

  • 避免因溫度偏差導(dǎo)致石墨烯層脫附或金屬硅化物形成


研究表明,正是得益于該高溫計的精準(zhǔn)控制,研究人員得以成功獲得質(zhì)量均一、結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的金屬-石墨烯異質(zhì)結(jié),有效抑制了Co與SiC的反應(yīng),為實現(xiàn)高品質(zhì)磁結(jié)構(gòu)提供了基礎(chǔ)保障。

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非接觸式測量,適配高真空與嚴苛條件


IMPAC IGA 6/23 高精度紅外測溫系列,其核心優(yōu)勢包括:


  • 非接觸式紅外測量技術(shù):避免傳統(tǒng)熱電偶污染或損傷樣品;

  • 高溫段精度出眾:適用范圍可達 50°C 至 2500°C,特別適合石墨烯、金屬膜、陶瓷等材料;

  • 適應(yīng)真空、惰性氣氛等實驗條件:確保溫度數(shù)據(jù)在特殊環(huán)境下依然可靠;

  • 快速響應(yīng)時間(ms級):適合動態(tài)退火、快速升溫等過程監(jiān)控。


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科研與工業(yè)的共同選擇


IMPAC IGA 6/23 不僅廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)研究(如材料物理、薄膜沉積、磁性異質(zhì)結(jié)研究等),更在以下工業(yè)領(lǐng)域展現(xiàn)出優(yōu)秀性能:


  • 半導(dǎo)體晶圓加熱工藝

  • 金屬粉末燒結(jié)與熱處理

  • 光伏硅片退火控制

  • 高溫反應(yīng)器溫度管理


其多功能模擬/數(shù)字輸出接口也方便與實驗室控制系統(tǒng)或工業(yè)自動化系統(tǒng)集成,實現(xiàn)溫度閉環(huán)控制。


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總結(jié)


IMPAC IGA 6/23 Advanced 光學(xué)高溫計,以其非接觸、高精度、環(huán)境適應(yīng)性強等技術(shù)優(yōu)勢,為前沿材料制備提供了可靠的溫度測控保障。在二維材料、自旋電子學(xué)及高溫功能薄膜等研究領(lǐng)域,已成為推動科學(xué)進步和產(chǎn)業(yè)升級的關(guān)鍵測溫設(shè)備。


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