極紫外 （EUV） 球面反射鏡

超拋光基片上的鉬/硅多層鍍膜

13.5nm 下可實現(xiàn)的大反射

設(shè)計用于 EUV 光束聚焦應(yīng)用

適用于 HHG 應(yīng)用的窄通帶

極紫外 （EUV） 球面反射鏡 具有多層鉬/硅鍍膜，在 13.5nm 下的反射率大于 60%。它們專為 5o 入射角設(shè)計，并用于聚焦非偏振 EUV 激光源。表面粗糙度小于 3? RMS，可大程度地降低散射。這對 EUV 波長*，因為 EUV 波長的散射比長波長更多. EUV 球面反射鏡的通帶非常窄，約為 0.5nm，確保只會在高諧波生成 (HHG) 應(yīng)用中反射 13.5nm 的關(guān)注諧波。EUV  球面反射鏡的典型應(yīng)用包括相干衍射成像 (CDI)、EUV 成像和 EUV 納米加工.

注意:
每個反射鏡均附運行樣本的測試數(shù)據(jù).

極紫外 （EUV） 球面反射鏡產(chǎn)品信息