優(yōu)質(zhì)基材

腔衰蕩時間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)基材的特點是：

Ø準確的幾何形狀：有關(guān)直徑，厚度，折痕或曲率半徑等幾何特性的公差，請參見我們目錄的第12頁

Ø表面粗糙度

Ø表面形狀公差

Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量

LAYERTEC針對所有這些參數(shù)優(yōu)化了拋光程序。 在下文中，我們就會展示使用熔融二氧化硅和氟化鈣可獲得的出色結(jié)果。

規(guī)格

表面粗糙度

ØRMS-熔融石英和氟化鈣的平面基板的粗糙度<1.5Å

Ø在光滑彎曲的球形熔融石英表面上得到相似的結(jié)果（取決于直徑和曲率半徑的比率）

Ø即使在紫外線范圍內(nèi)，基材的散射損耗也非常低：

ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)

ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm

Ø即使在DUV / VUV波長范圍內(nèi)也適用于低損耗光學元件

高質(zhì)量拋光熔融石英基板的功率譜密度（PSD）曲線（在FhG IOF Jena上執(zhí)行的測量）

高質(zhì)量拋光CaF2基板（在FhG IOF Jena執(zhí)行）的3D AFM測量，均方根粗糙度0.12nm

表面形狀公差

表面質(zhì)量