目錄:江陰韻翔光電技術有限公司>>光學元件>>反射鏡>> 雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 |
雙波段低 GDD 超快反射鏡
用于超快光束轉向的高反射率和低 GDD
離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失
設計波長范圍內的近零群延遲色散
TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。 利用離子束濺射鍍膜技術，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應用，因為它們將保持超短脈沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。
通用規(guī)格
| 入射角 (°): | 45 | 鍍膜類型: | S1: Dielectric S2: Stress-compensating |
| 波長范圍 (nm): | 500 - 540, 1000 - 1070 | ||
| 后表面: | Commercial Polish | 鍍膜規(guī)格: | Rs>99.9% @500-540nm; Rp>99.8% @505-530nm; Rs>99.9% @1000-1070nm, Rp>99.8% @1000-1070nm |
| 基底: | Fused Silica | ||
| 平行度（弧分）: | <3 | ||
| 有效孔徑 (%): | >90 | ||
| 典型應用: | Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers | <35fs2@ 500 - 540nm (s-pol) <50fs2@ 505 - 530nm (p-pol) <20fs2@ 1000 - 1070nm (s-pol) <40fs2@ 1000 - 1070nm (p-pol) | |
| 鍍膜: | Ultrafast (500-540, 1000-1070nm) | ||
| 表面質量: | 10-5 | GDD Specification: | |
| 設計波長 DWL (nm): | 515, 1030 | ||
產品型號
| 標題 | 產品編碼 |
| 515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-286 |
| 515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-287 |
| 515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror | #17-288 |
UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多層反射鏡
設計用于 330 阿秒脈沖 @ 65eV (19nm)
具有 38% 峰值反射率的多層鍍膜
≤1? 表面粗糙度超拋光基材
13.5nm 設計的 EUV 平面鏡和 EUV 球面鏡也可提供
UltraFast Innovations (UFI) 極紫外 (EUV) 阿秒多層反射鏡專為控制、聚焦和整形阿秒脈沖而設計。 它們的多層鍍膜以 65eV (19nm) 為中心，帶寬為 6eV (1.8nm)，為 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 這些反射鏡支持時間持續(xù)時間為 330 阿秒的 EUV 脈沖。 UFI 極紫外 (EUV) 阿秒鏡非常適合基于高次諧波 (HHG)、自由電子激光器 (FEL) 或其他量子光學應用的阿秒脈沖生成和整形。 提供直徑為25.4mm的平面鏡和凹面鏡； 如果您的應用需要具有定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的 EUV 多層反射鏡，請聯(lián)系我們。
通用規(guī)格
| 直徑 (mm): | 25.40 ±0.13 | 基底: | Fused Silica |
| 后表面: | Commercial Polish | 鍍膜規(guī)格: | Rs > 38% @ 65eV/19nm |
| 表面質量: | 10-5 | 鍍膜: | EUV Multilayer (19nm) |
| 入射角 (°): | 5 | 有效孔徑 (%): | 80 |
| 設計波長 DWL (nm): | 19 | 邊緣: | Fine Ground |
| 表面粗糙度（埃）: | <1 | Center Energy (eV): | 65 ±2 |
| Bandwidth (eV): | 6 | Supported Pulse Duration: | 330 attoseconds |
| 邊緣厚度 ET (mm): | 6.35 ±0.20 |
產品型號
| 標題 | 產品編碼 |
| 25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror | #16-765 |
| 25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-766 |
| 25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-767 |
技術數(shù)據(jù)
超快增強型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡
用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增強型銀膜
600 - 1050nm 范圍的群延遲色散低 (0±20fs2)
<50? RMS 表面粗糙度，以最/大程度地減少散射
TECHSPEC® 超快增強型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡用于準直或聚焦指/定偏移角度的入射光。這些反射鏡鍍有超快增強型銀膜，在 600 - 1050nm 范圍內提供 >99% 的反射率，同時保持 0 ±20fs2的低群延遲色散 (GDD)。這些反射鏡的離軸設計將焦點與光束路徑分開，從而在焦點周圍提供更多交互空間，而不會干擾入射光束。TECHSPEC 超快增強型銀膜 OAP 反射鏡非常適合聚焦來自中低功率超快激光器的激光，包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纖激光器，同時最大限度地減少超快脈沖的時間擴展。帶有垂直于光軸的孔的安裝板可用于將這些反射鏡安裝到臺式系統(tǒng)中。
通用規(guī)格
| 焦距容差 (%): | ±1 | 涂層規(guī)格: | Ravg>99% @ 600 - 1000nm, 0° Rs>99% @ 540 - 1000nm, 45° Rp>98.5% @ ~730 - 870nm, 45° |
| 波長范圍 (nm): | 600 - 1050 | ||
| 面形計算 (RMS): | λ/4 | ||
| 偏離角度 (°): | 90 | 鍍膜類型: | Ultrafast Enhanced Silver |
| 表面粗糙度（埃）: | <50 RMS | 反射波前, RMS: | λ/8 |
| 表面質量: | 80-50 | 基底: | Aluminum 6061-T6 |
| 涂層: | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | ||
產品型號
| Dia. (mm) | EFL (mm) | 涂層 | 產品編碼 |
| 12.70 | 12.70 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-133 |
| 12.70 | 25.40 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-134 |
| 12.70 | 203.20 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-138 |
| 25.40 | 25.40 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-139 |
| 25.40 | 50.80 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-140 |
| 25.40 | 203.20 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-146 |
| 50.80 | 50.80 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-147 |
| 50.80 | 190.60 | Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm) | #17-152 |
技術數(shù)據(jù)
600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver
雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
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