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目錄:江陰韻翔光電技術(shù)有限公司>>光學(xué)元件>>反射鏡>> RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26

RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26
  • RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
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  • 品牌 其他品牌
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  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 無(wú)錫市
屬性

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更新時(shí)間:2023-12-21 19:00:03瀏覽次數(shù):1560評(píng)價(jià)

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價(jià)格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子
組件類別 光學(xué)元件
RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26
水冷鋁鏡的能力使加工頭的重量更輕,并使切割和焊接速度加快。與同等的銅件相比,鋁的重量和腐蝕程度大大降低。對(duì)于1微米的應(yīng)用,鋁反射鏡可以進(jìn)行后拋光,在折疊鏡配置中達(dá)到亞納米級(jí)的粗糙度,并沉積有高反射率的電介質(zhì)涂層,用于>20千瓦的功率使用。

RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26

用于高功率激光器的水冷鋁反射鏡

水冷鋁鏡的能力使加工頭的重量更輕,并使切割和焊接速度加快。與同等的銅件相比,鋁的重量和腐蝕程度大大降低。對(duì)于1微米的應(yīng)用,鋁反射鏡可以進(jìn)行后拋光,在折疊鏡配置中達(dá)到亞納米級(jí)的粗糙度,并沉積有高反射率的電介質(zhì)涂層,用于>20千瓦的功率使用。

特點(diǎn)

可提供水冷系統(tǒng)

兼容所有標(biāo)準(zhǔn)的金剛石車削操作

亞納米級(jí)的粗糙度(僅平面配置)。

直徑可達(dá)300mm

可提供額外的輕量化選項(xiàng)

耐腐蝕



AluminumCopper
Density2.7 g/cc8.94 g/cc
Thermal Diffusivity82 mm2 /s113 mm/s
Thermal Diffusivity200 W/m•K391 W/m•K
Yield Strength200-460 MPa195 MPa
CTE0.000024 (µm/m)°C0.000017 (µm/m)°C
Knoop Hardness9683


RYMO反射鏡系列產(chǎn)品26

硒化鋅5.3-6.0微米寬幅抗反射鍍膜

ZnSe 5.3-6.0 μm的寬幅抗反射(BAR)鍍膜是為了在透鏡和部分反射器的AR側(cè)提供低反射率和高透光率。這種鍍膜對(duì)CO激光系統(tǒng)特別有用,可以為任何CO激光波長(zhǎng)范圍設(shè)計(jì)。


光譜性能

在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)下。(5.3-6.0微米)

反射平均值≤0.5%。

透射平均值≥99.0%。


II-VI 是激光光學(xué)領(lǐng)域的優(yōu)良品牌,現(xiàn)在正在擴(kuò)展其產(chǎn)品線,以包括用于一氧化碳 (CO) 激光器的光學(xué)元件和組件。 我們完整的 CO 激光光學(xué)產(chǎn)品系列將為激光系統(tǒng)制造商提供將這項(xiàng)新技術(shù)融入其制造平臺(tái)所需的工具。 新型 CO 激光器現(xiàn)在用于材料加工應(yīng)用,例如 PCB 鉆孔以及玻璃、陶瓷和薄膜的切割。 CO 激光器在醫(yī)學(xué)領(lǐng)域和美容程序中也有潛在的應(yīng)用。 CO 系列是對(duì)我們現(xiàn)有的 CO2 光學(xué)產(chǎn)品的重要補(bǔ)充,這些產(chǎn)品已經(jīng)服務(wù)于工業(yè)、醫(yī)療和半導(dǎo)體行業(yè)。

能力

可用的高質(zhì)量透射光學(xué)材料- ZnSe、ZnS(MS) 和 Ge

4 - 250 mm 直徑光學(xué)元件

可根據(jù)要求提供定制光學(xué)設(shè)計(jì)(例如非球面、軸錐、球面、自由曲面透鏡等)

定制鍍膜設(shè)計(jì)以滿足特定客戶的要求

擴(kuò)束鏡、多元掃描透鏡、切割頭等光學(xué)組件

能夠?yàn)楣馐干洹⒄耒R和諧振鏡的所有反射材料(例如銅、硅、鋁等)鍍膜。

5-6 µm 鍍膜

II-VI 開發(fā)了一套完整的鍍膜,包括抗反射鍍膜、反射鍍膜、帶選擇諧振器鍍膜、分束器和偏振鍍膜。 這些鍍膜的開發(fā)考慮了 CO 激光器的多條激光線。 這些鍍膜在 5µm - 6µm 范圍內(nèi)具有寬帶覆蓋 CO 光譜。

5-6µm 掃描光學(xué)元件

II-VI 也是完整系列 5 - 6µm 掃描光學(xué)器件的僅有來(lái)源。 從用于光束控制的振鏡到用于光束整形的光束擴(kuò)展器,II-VI 可以為您的掃描系統(tǒng)提供一整套光學(xué)器件。 II-VI 還可以為所有激光加工應(yīng)用提供單晶和多晶掃描鏡頭。 對(duì)于高性能系統(tǒng),如通孔鉆孔應(yīng)用,II-VI 可以定制設(shè)計(jì)和制造鏡頭,以滿足所有苛刻的要求。

材料特性


光學(xué)特性ZnSeZnS(MS)Ge
體積Abs@ 5.5µm0.0004/cm0.005/cm0.005/cm
折射率溫度變化@ 3.39µm62x10-6/°C39x10-6/°C396x10-6/°C
機(jī)械性能


密度5.27 g/cm34.09 g/cm35.32 g/cm3
楊氏模量67.2 Gpa85.5 Gpa100 Gpa
努氏硬度105-120 kg/mm3150-165 kg/mm3692 kg/mm3
泊松比0.280.270.27
熱性能


熱導(dǎo)率@ 20°C0.18 W/cm/°C0.27 W/cm/°C0.59 W/cm/°C
熱膨脹@ 20°C7.57x10-5/°C6.5x10-5/°C5.7x10-5/° C

吸收式薄膜反射器(ATFR)


吸收式薄膜反射器(ATFR)在銅基底上集成了一個(gè)偏振敏感的薄膜反射鍍膜。這種鍍膜最初是為在10.6微米和45°入射角下使用而設(shè)計(jì)的。該鍍膜將反射s-偏振并吸收p-偏振;因此,它須被放置在入射光束為s-偏振的光束傳輸系統(tǒng)中。

在工件高度反射的切割應(yīng)用中,工件的反射可以通過(guò)光束傳輸系統(tǒng)傳回激光腔內(nèi)。這在切割的初始階段有可能發(fā)生。這些反向反射會(huì)導(dǎo)致激光腔模式和功率不穩(wěn)定。返回的光束也有可能在激光腔內(nèi)被放大,然后聚焦在一個(gè)光束傳輸光學(xué)器件上,導(dǎo)致該光學(xué)器件損壞。

在切割高反射金屬如銅、黃銅或鋁時(shí),使用ATFR特別重要,因?yàn)檫@些材料具有高反射性。用于切割應(yīng)用的光束傳輸系統(tǒng)通過(guò)反射相位延遲器(RPRs)將線性偏振轉(zhuǎn)換為圓形偏振。在這種類型的光束傳輸系統(tǒng)中,來(lái)自工件的反射能量被RPR轉(zhuǎn)換回線性極化。反射的線性偏振的平面與出射的線性偏振激光束旋轉(zhuǎn)90°。如果光束傳輸系統(tǒng)中的一個(gè)鏡子的方向是使出射的激光束是s極化的,那么背反射的能量在這個(gè)鏡子上必須是p極化的。

ATFR的特性使其成為防止不需要的反射到達(dá)激光腔的理想鏡子,它吸收反射的p-偏振激光束。

規(guī)格


規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)
反射率 @ 10.6µm, 45o AOI.
≥ 99.0% (S-pol)
≤1.5%(P-pol)
0.6328µm的反射率,45o AOI。≥80.0%(R-pol)
入射角
S-pol:45o
P-pol:45o


其他波長(zhǎng)的光譜性能


波長(zhǎng)(μm)45°AOI時(shí)的反射率
S-polP-pol
10.24≥ 98.5%≤ 3.0%
9.55≥ 98.5%≤ 3.0%
9.38≥ 98.5%≤ 3.0%
9.28≥ 98.5%≤ 3.0%
9.15≥ 98.5%≤ 3.0%


部件號(hào)說(shuō)明直徑厚度


英寸毫米英寸毫米
682239Cu1.538.10.164.06
432326Cu1.96950.00.39410.0
160586Cu2.050.80.3759.53
504774Cu2.2557.151.2531.75
728695Cu2.362600.59115.0
255328Cu3.076.20.5012.7

目的

在工件具有高反射率的切割應(yīng)用中,工件的反射可以通過(guò)光束傳輸系統(tǒng)傳輸回激光腔。 這有可能發(fā)生在切割的初始階段。 這些背反射會(huì)導(dǎo)致激光腔模式和功率不穩(wěn)定。 返回的光束也有可能在激光腔中被放大,然后聚焦在其中一個(gè)光束傳輸光學(xué)器件上,從而對(duì)該光學(xué)器件造成損壞。

工作原理

使用 ATFR 切割高反射金屬(例如銅、黃銅或鋁)尤為重要,因?yàn)檫@些材料對(duì)于 10.6μm 激光能量具有高反射性。 CO2 激光器產(chǎn)生線性偏振激光束。 用于切割應(yīng)用的光束傳輸系統(tǒng)通過(guò)反射式相位延遲器 (RPR) 將線偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振。 在這種類型的光束傳輸系統(tǒng)中,來(lái)自工件的反射能量被 RPR 轉(zhuǎn)換回線性偏振。 反射的線偏振平面與出射的線偏振激光束成 90°。 如果光束傳輸系統(tǒng)中的一個(gè)反射鏡被定向使得出射激光束為 S 偏振,則反射能量必須在該反射鏡處為 P 偏振。 ATFR 使其成為防止不需要的反射到達(dá)激光腔的理想反射鏡的特性是它對(duì)反射的 P 偏振激光束的吸收。

術(shù)語(yǔ)和定義

在討論如何使用反射鏡以及在光束傳輸系統(tǒng)中將其放置在何處之前,需要定義一些術(shù)語(yǔ)。 討論與某個(gè)參考點(diǎn)相關(guān)的偏振是方便的。 對(duì)于我們的討論,我們將說(shuō)平面偏振是垂直的、水平的或與垂直平面成 45° 的方向。 當(dāng)平面偏振光束撞擊鏡面時(shí),它可以稱為 S 偏振、P 偏振或與反射平面成 45° 的平面偏振。 此后,我們將把這最后的偏振稱為 45° 平面偏振。 圓偏振沒(méi)有特定的方向平面。 并且,當(dāng)圓偏振撞擊鏡面時(shí),稱為圓偏振。

如何使用

使用 ATFR 反射鏡的僅有要求是:(1) 射向反射鏡的出射偏振必須是 S 偏振;(2) 光束傳輸系統(tǒng)包含一個(gè) RPR,可將線性出射偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振。 RPR 必須位于 ATFR 的下游,沿著激光束朝向工作表面的方向。 在決定反射鏡的位置時(shí),必須首先確定激光器的輸出偏振——即它是垂直、水平還是 45° 平面偏振? 如果不確定激光器產(chǎn)生什么類型的偏振,較好的信息來(lái)源是激光器制造商。 以下是激光類型及其輸出偏振的一些示例。

下一步是定位 RPR 鏡像。 如果系統(tǒng)不使用 RPR 反射鏡,則必須先安裝一個(gè),然后再將 ATFR 反射鏡安裝到光束傳輸系統(tǒng)中。 注意:RPR 鏡像必須安裝在 ATFR 鏡像的下游

很多時(shí)候,RPR 位于聚焦透鏡之前的最后一個(gè)彎曲鏡,盡管它可以位于光束傳輸路徑上的任何位置。 同樣,如果您不確定 RPR 鏡像的位置和位置,請(qǐng)聯(lián)系系統(tǒng)制造商。

ATFR 必須位于激光腔的輸出耦合器和位于激光頭下游某個(gè)點(diǎn)的 RPR 之間。 如果激光輸出偏振是已知的,就可以決定在哪里放置反射鏡。 由于 ATFR 反映了輸出的 S 極化,因此它的方向必須如下圖所示。 該圖假設(shè)出射激光束是垂直偏振的。 請(qǐng)注意,鏡子在水平面上反射光束,水平面可以是左面也可以是右面。

如果激光產(chǎn)生水平偏振,那么 ATFR 鏡將在垂直平面上反射光束,該平面可以向上或向下。

最后,對(duì)于更困難的 45° 平面偏振情況,必須將 ATFR 反射鏡定向?yàn)橐耘c垂直方向成 45° 的角度向上或向下反射光束。

同樣,反射鏡的位置必須能夠反射出射的 S 偏振光束。 如果系統(tǒng)中有一面面向 Spolarization 的鏡子,這很容易實(shí)現(xiàn)。 如果有這樣的鏡子,那么可以使用 ATFR 鏡子代替這面鏡子,并且不需要對(duì)光束傳輸系統(tǒng)進(jìn)行其他修改。

1

圖 1 是一個(gè)激光系統(tǒng)示例,其中第一個(gè)反射鏡已替換為 ATFR 反射鏡。 在本例中,激光產(chǎn)生水平偏振,因此 ATFR 被定位為在垂直方向反射光束。 該系統(tǒng)可以使用包含 RPR 的 2 或 4 反射鏡模塊將線偏振轉(zhuǎn)換為圓偏振。

激光隔離器的應(yīng)用 - 通過(guò)使用 ATFR 鏡作為第一鏡的系統(tǒng)改變偏振

 2

一些激光系統(tǒng)在光束傳輸系統(tǒng)中沒(méi)有定向反射 S 偏振的鏡子。 在其中一些系統(tǒng)中,添加另一個(gè)鏡子并不方便,因?yàn)樗鼤?huì)導(dǎo)致光束以奇數(shù)角度或不期望的方向反射。 在這些情況下,添加一個(gè)不會(huì)改變激光束方向的 4 片反射鏡模塊(激光隔離器)可能是較簡(jiǎn)單的方法。 此方案的示例如圖 2 所示。在此示例中,激光器產(chǎn)生平面偏振,包含 ATFR 反射鏡的 4 反射鏡模塊安裝在與垂直方向成 45° 角的位置。 這確保了 ATFR 反射鏡反射 S 偏振。

激光隔離器的應(yīng)用 - 通過(guò)使用型號(hào) LI-10.6-28-ATFR-AC 的系統(tǒng)改變偏振

 3

圖 3 至圖 5 顯示了其他一些示例。 注意:如果 ATFR 安裝不正確,鏡子可能會(huì)損壞或毀壞。 如果 ATFR 安裝在 RPR 的下游,反射鏡將吸收 50% 的激光功率; 這可能會(huì)導(dǎo)致鍍膜被破壞。 如果 ATFR 安裝在 ATFR 將入射光束反射為 P 偏振的位置,則 100% 的光束將被吸收。 如果將 ATFR 放置在具有產(chǎn)生 45° 線偏振的激光器的光束傳輸系統(tǒng)中,并且 ATFR 將光束向左或向右或向上或向下反射,則 ATFR 將吸收 50% 的光束。

激光隔離器的應(yīng)用 - 通過(guò)使用 ATFR 鏡作為第一鏡的系統(tǒng)改變偏振

 4

使用型號(hào) LI-10.6-28-ATFR-AC 的系統(tǒng)中的偏振變化

 5

激光隔離器的應(yīng)用 - 通過(guò)使用型號(hào) LI-10.6-28-ATFR-AC 的系統(tǒng)改變偏振


輸出耦合器(部分反射器)

部分反射器通常用作激光輸出耦合器或光束衰減器。

激光輸出耦合器通常需要一個(gè)稍微楔形的基板,以消除組件內(nèi)部多重反射的干擾。如果您需要特定的楔形值,請(qǐng)?jiān)谟嗁?gòu)時(shí)說(shuō)明。

規(guī)格


規(guī)格
標(biāo)準(zhǔn)
尺寸公差直徑厚度(平面)厚度(放射狀)+0.000"-0.005"+0.005"-0.010"+/-0.010"
并行性
PlanoRadiused, Diameter < 1"
Radiused, Diameter >= 1"
<= 3 arc minutes<= 10 arc minutes
<= 5 arc minutes
透明光圈(拋光
90%的直徑
0.63µm處的表面圖(功率/不規(guī)則度)。普拉諾輻射式1個(gè)流蘇/0.5個(gè)流蘇(根據(jù)半徑不同而不同)
表面挖掘
20-10
側(cè)面1:10.6µm處的反射率公差
1%至5%:±0.5%xR。6%至85%。+3%86%至95%。
+1.5%96%至98%。+1%99%:+0.2%99.5%:+0.2%
側(cè)面2:10.6µm處的AR涂層反射率。<= 0.20%


零件信息


部件號(hào)說(shuō)明直徑(英寸)直徑(毫米)邊緣厚度(英寸)邊緣厚度(毫米)反射率半徑**側(cè)面1/側(cè)面2
988175ZnSe1.0"25.40.236"5.9965%30MCC/30MCX
774314ZnSe1.0"25.40.236"5.9950%PO/PO
132098ZnSe1.1"27.940.220"5.5950%20MCC/15MCX
346822*ZnSe1.181"30.00.236"5.9950%30MCC/30MCX
554288ZnSe1.5"38.10.236"5.9930%10MCC/10MCX
187879ZnSe1.5"38.10.236"5.99UC10MCC/15MCX
120765ZnSe1.5"38.10.236"5.9930%20MCC/PO
903007ZnSe2.0"50.80.300"7.6248%30MCC/20MCX
*MP-5®型涂料**M為米,CC為凹,CX為凸,PO為平。請(qǐng)聯(lián)系我們了解具體規(guī)格。


鋁制可變半徑反射鏡

II-VI 為高功率工業(yè)激光器推出了新的輕質(zhì)鋁制可變半徑反射鏡(VRM)。鋁制VRM系列的重量?jī)H為同類銅制產(chǎn)品的18%,為原始設(shè)備制造商提供了更快的切割/焊接頭移動(dòng)速度和更長(zhǎng)的循環(huán)壽命。II-VI的鋁制VRM還具有低粗糙度的拋光表面,可用于1微米的應(yīng)用和高達(dá)20千瓦的激光功率的定制設(shè)計(jì)中。

特點(diǎn)

壓力范圍:0 - 11 bar0-11巴

橈。短至3個(gè)MCC-3個(gè)MCX*。

入射角。0° – 45°

標(biāo)準(zhǔn)可用的透明孔徑。20 - 40毫米

Roughness: < 30 ? (lower roughness, polished surface available)

Irregularity: < 3 fr at maximum/minimum radius

重量。與類似的銅質(zhì)設(shè)計(jì)相比,重量減少82%。

壽命。高達(dá)5億次

空氣和水驅(qū)動(dòng)和冷卻*

高達(dá)20千瓦的激光功率*。

氧化物涂層*

輕量級(jí)設(shè)計(jì)*

面部冷卻選項(xiàng)*

降低電化學(xué)腐蝕電位

* 根據(jù)要求提供定制設(shè)計(jì)

粗糙度

材料比較

反射相位緩速器

金屬切割和其他關(guān)鍵的激光操作對(duì)切口寬度或橫截面的任何變化都很敏感。切口的質(zhì)量取決于相對(duì)于切割方向的偏振方向(圖1)。

目前的理論表明,聚焦光束以正常入射角撞擊工件的假設(shè)僅在切割開始時(shí)是正確的。一旦切口形成,光束就會(huì)以某個(gè)大的入射角θ遇到金屬,如圖2所示。相對(duì)于這樣的表面,s極化的光比p極化的光反射得更多,導(dǎo)致了切割質(zhì)量的差異。

將四分之一波(90°)反射式相位延遲器(RPR)引入光束傳輸路徑,通過(guò)將線性極化轉(zhuǎn)換為圓形極化來(lái)消除切口變化。圓極化由任何光束方向的等量s極化和p極化組成;因此,所有軸都遇到相同的極化成分,并且無(wú)論切割方向如何,材料都被均勻地去除。

線性偏振光束的方向是使偏振平面與入射平面成45°,并在與法線成45°的位置撞擊RPR(圖3)。反射的光束是圓偏振的。


基片的選擇取決于激光器運(yùn)行的功率水平。可提供替代基底,包括水冷銅。也可提供第八波和第十六波RPR設(shè)計(jì),以及用于10.6微米以外的峰值波長(zhǎng)的設(shè)計(jì)。請(qǐng)聯(lián)系II-VI 銷售代表以了解更多信息。

規(guī)格

規(guī)格標(biāo)準(zhǔn)
尺寸公差
直徑:+0.000"-0.005"。+0.000"-0.005"
厚度:+/-0.010+/-0.010"
并行性<= 3 arc minutes
透明光圈(拋光90%的直徑
0.63µm處的表面圖(功率/不規(guī)則度)。<=2 fringes/0.5 fringe
刮痕-凹陷10-5
10.6µm的反射率>= 98%
10.6µm @ 45o的相位延遲。90o+/-3o
橢圓度比0.90-1.11


零件信息

部件號(hào)說(shuō)明直徑(英寸)直徑(毫米)邊緣厚度(英寸)邊緣厚度(毫米)相移@ 10.6µm(度數(shù))
498237Si1.538.10.164.0690+/-6
893833Si2.050.80.205.0890+/-2
582132Si2.050.80.205.0890+/-2
592353Si2.050.80.3759.5390+/-6
102719Si2.050.80.170590+/-2
969917Si2.050.80.4010.1690+/-6
772930Si2.677680.8020.3290+/-1
697768Si3.076.20.236690+/-6
224094Si3.076.20.256.3590+/-6
390686Cu1.538.10.256.3590+/-6
666269Cu1.969500.3941090+/-6
832944Cu2.2557.150.3941090+/-2
488199Cu-WC*2.2557.151.2531.7590+/-6
800102Cu2.362600.3941090+/-2
634413Cu2.362600.5911590+/-2
748680Cu3.076.20.5012.790+/-6
744069Cu3.076.20.5911590+/-2
*Cu-WC:水冷銅。請(qǐng)聯(lián)系我們了解具體規(guī)格。


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