產(chǎn)品簡(jiǎn)介
Laser MBE具備PLD和傳統(tǒng)MBE的特點(diǎn),對(duì)薄膜的生長(zhǎng)速率進(jìn)行精確(原子層級(jí)別)控制。設(shè)備特點(diǎn)是在MBE系統(tǒng)上增加激光燒蝕工藝,系統(tǒng)可以生長(zhǎng)包括高熔點(diǎn)陶瓷以及多元素固體材料等各種材料。SVT有20年的MBE設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn),我們擅于通過(guò)在線監(jiān)控薄膜生長(zhǎng)來(lái)提高薄膜質(zhì)量。
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
Laser MBE具備PLD和傳統(tǒng)MBE的特點(diǎn),對(duì)薄膜的生長(zhǎng)速率進(jìn)行精確(原子層級(jí)別)控制。設(shè)備特點(diǎn)是在MBE系統(tǒng)上增加激光燒蝕工藝,系統(tǒng)可以生長(zhǎng)包括高熔點(diǎn)陶瓷以及多元素固體材料等各種材料。SVT有20年的MBE設(shè)備制造經(jīng)驗(yàn),我們擅于通過(guò)在線監(jiān)控薄膜生長(zhǎng)來(lái)提高薄膜質(zhì)量。所采用的在線監(jiān)控儀器包括:溫度測(cè)量?jī)x、厚度測(cè)量?jī)x、RHEED、束流監(jiān)控儀等。如果您想了解更多這方面的信息,請(qǐng)。
應(yīng)用
氧化物半導(dǎo)體、高溫超導(dǎo)材料、光學(xué)晶體材料、電光學(xué)薄膜、鐵電以及鐵磁材料等
標(biāo)準(zhǔn)性能
● 超高真空(本底壓強(qiáng)<1E-10 Torr)
● 集成多種類(lèi)型源,包括:
- RF等離子體源
- 熱蒸發(fā)源
- 電子束蒸發(fā)源
- 臭氧傳送系統(tǒng)
● 良好的在線監(jiān)控儀(可選)
- 原子吸收束流監(jiān)控儀
- RHEED
- 溫度以及厚度測(cè)量?jī)x
● 6個(gè)可旋轉(zhuǎn)PLD靶
● 高功率準(zhǔn)分子激光器
● 提供合適的泵抽組合
● 多種腔室配置以滿足您的需求
● 培訓(xùn)以及服務(wù)支持
技術(shù)參數(shù):
Nitride Systems
Oxide Systems
Silicon Systems
Metal Organic Systems
Generic III-V and II-VI Systems
Compact MBE System (pdf brochure)
Dual Chamber MBE System (pdf brochure)